[发明专利]一种金属氢化物薄片制备方法

说明书

本发明公开了一种金属氢化物薄片制备方法，目的在于解决轻金属氢化物在大气环境极易与水发生化学反应，常规砂纸打磨方法制备的金属氢化物薄片会在其表面生成水解产物，造成太赫兹特征波失真，并影响相关材料内部缺陷无损检测效果的问题。本发明为了获得准确的金属氢化物内部缺陷无损检测结果，开发了一种用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片制备方法。该方法首先利用化学气相沉积技术（CVD）在金属氢化物圆片表面形成一层致密的防水高分子膜，然后再将试件置于金相制样机进行处理，最终在薄片新磨制面化学气相沉积防水膜，获得用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片。经实际测定，本发明能够有效解决前述问题，保证测定结果的准确性和可靠性。

技术领域

本发明涉及化学领域，具体为一种金属氢化物薄片的制备方法。更具体地，本发明提供一种用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片制备方法，所制备的薄片能够反映真实特征波谱，保证检测结果的准确性和可靠性。

背景技术

轻金属氢化物具有高的氢密度和低的质量密度，对水有很强的化学势，极易在大气环境下发生水解反应，物理和化学性质独特，一般有氢化钠、氢化镁、氢化钙、氢化锂等。轻金属氢化物作为超轻结构件和氢燃料来源的热门候选材料，对其研究具有重要的意义。

采用太赫兹技术可以对金属氢化物内部缺陷进行无损检测。通过太赫兹技术表征不同状态下金属氢化物薄片，获得金属氢化物的特征波谱，甄别有无缺陷氢化物制品的特征曲线，能对轻金属氢化物制品生产工艺优化及产品质量控制提供可靠的数据支撑。在轻金属氢化物太赫兹特征波提取时，对样品厚度有严格的要求，通常厚度须小于1mm。然而，轻金属氢化物对水有很强的亲和势，在水分压很低的条件下就会发生化学反应，采用常规模压+砂纸打磨方法制备金属氢化物薄片时，由于没有对目标材料的试样实时保护，导致其在制作时表面发生化学反应，不能反映其真实特征波谱，影响无损检测结果的可靠性。

为此，迫切需要一种新的方法，以解决上述问题。

发明内容

本发明的发明目的在于：针对轻金属氢化物在大气环境极易与水发生化学反应，常规无保护措施砂纸打磨方法制备的金属氢化物薄片会在其表面生成水解产物，造成太赫兹特征波失真，并影响相关材料内部缺陷无损检测效果的问题，提供一种金属氢化物薄片制备方法。本发明为了获得准确的金属氢化物内部缺陷无损检测结果，开发了一种用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片制备方法。该方法首先利用化学气相沉积技术（CVD）在金属氢化物圆片表面形成一层致密的防水高分子膜，然后再将试件置于金相制样机进行处理，最终在薄片新磨制面化学气相沉积防水膜，获得用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片。经实际测定，本发明能够有效解决前述问题，保证测定结果的准确性和可靠性，对于金属氢化物的特征波谱的获得具有重要的应用价值。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种金属氢化物薄片制备方法，所述金属氢化物薄片的直径为10mm-20mm，厚度为0.5mm-1mm。

包括如下步骤：

（1）在金属氢化物片材表面沉积一层致密的防水高分子膜，得到第一片材；

（2）将第一片材置于金相制样机进行处理，打磨至设定厚度，得到第二片材；

（3）在第二片材新磨制面化学气相沉积防水高分子膜，即得用于提取太赫兹特征波的金属氢化物薄片。

所述步骤（1）中，将金属氢化物片材进行清洁处理后，将其置于沉积室内进行气相沉积，从而在金属氢化物片材表面沉积一层致密的防水高分子膜；

沉积条件如下：温度640℃-660℃，真空4.0Pa-6.2Pa；

初始金属氢化物片材尺寸：直径为10mm-20mm，厚度为2mm-4mm。

所述步骤1中，金属氢化物片材为圆形。