[发明专利]固体摄像装置有效
申请号: | 201711055697.2 | 申请日: | 2013-03-08 |
公开(公告)号: | CN107833899B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 森三佳;大槻浩久;大森爱幸;佐藤好弘;宫川良平 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/3745 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 安香子 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 固体 摄像 装置 | ||
1.一种固体摄像装置,具备被配置成二维状的多个像素,
所述多个像素的每一个具备:
第一电压的半导体衬底;
金属电极;
光电转换层,被形成在所述金属电极上,并将光转换为电信号;
透明电极,被形成在所述光电转换层上;
电荷积蓄区域,形成在所述半导体衬底中,与所述金属电极电连接,并积蓄来自所述光电转换层的电荷;
放大晶体管,输出与所述电荷积蓄区域的电荷量相对应的信号电压;以及
复位晶体管,对所述电荷积蓄区域的电位进行复位,
在所述复位晶体管导通时,所述复位晶体管的栅极被施加第二电压,
在所述复位晶体管断开时,所述复位晶体管的栅极被施加第三电压,
所述第一电压处于所述第二电压与所述第三电压之间,
所述固体摄像装置还具备位于所述电荷积蓄区域的上部的表面注入区域,
所述电荷积蓄区域是第1导电型,所述表面注入区域是第2导电型。
2.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述固体摄像装置还具备电源电路,该电源电路将电压施加到所述透明电极,
构成所述电源电路的晶体管的栅极氧化膜的膜厚比所述复位晶体管的栅极氧化膜的膜厚厚。
3.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述放大晶体管的沟道宽度比所述复位晶体管的沟道宽度大。
4.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素的每一个还具备选择晶体管,该选择晶体管决定所述放大晶体管对所述信号电压进行输出的定时,
所述多个像素包括第一像素,
所述第一像素内的所述选择晶体管与所述第一像素内的所述放大晶体管共享活性区的一部分,
所述第一像素内的所述复位晶体管的活性区与所述第一像素内的所述放大晶体管的活性区电隔离。
5.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素的每一个还具备选择晶体管,该选择晶体管决定所述放大晶体管对所述信号电压进行输出的定时,
所述多个像素包括第一像素、以及在受光面上与该第一像素在水平方向上相邻的第二像素,
所述第一像素内的所述复位晶体管被配置在,所述第一像素内的所述放大晶体管与所述第二像素内的所述放大晶体管之间。
6.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述复位晶体管的栅极长度比所述放大晶体管的栅极长度长。
7.如权利要求4或5所述的固体摄像装置,
所述选择晶体管的栅极长度比所述放大晶体管的栅极长度短。
8.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素包括第一像素、以及在受光面上与该第一像素在垂直方向上相邻的第二像素,
所述第一像素内的所述放大晶体管与所述第二像素内的所述放大晶体管共享活性区。
9.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素的每一个还具备选择晶体管,该选择晶体管决定所述放大晶体管对所述信号电压进行输出的定时,
所述多个像素包括第一像素、以及在受光面上与该第一像素在垂直方向上相邻的第二像素,
所述第一像素内的所述选择晶体管与所述第二像素内的所述选择晶体管共享活性区。
10.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素包括第一像素、以及在受光面上与该第一像素在垂直方向上相邻的第二像素,
所述第一像素内的所述复位晶体管与所述第二像素内的所述复位晶体管共享活性区。
11.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述复位晶体管的栅极氧化膜的膜厚在4nm至13nm的范围,
所述放大晶体管的栅极氧化膜的膜厚在3nm至6nm的范围。
12.如权利要求1所述的固体摄像装置,
所述多个像素的每一个还具备选择晶体管,该选择晶体管决定所述放大晶体管对所述信号电压进行输出的定时,
所述多个像素包括第一像素、以及在受光面上与该第一像素在水平方向上相邻的第二像素,
所述第一像素内的所述复位晶体管被配置在,所述第一像素内的所述选择晶体管与所述第二像素内的所述选择晶体管之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711055697.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的