[发明专利]一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置

说明书

本发明涉及光刻机技术领域，尤其为一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置，包括主体箱与控制面板，所述主体箱的下端外侧设有防震垫，所述主体箱的上端外侧设有激光传感器与观察窗，且送片台的上端外表面活动安装有传送带，所述主体箱的内部设有传动轮与硅片盒，所述传动轮的水平一侧固定安装有双压伺服电机。本发明所述的一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置，设有激光传感器、观察窗和双压伺服电机，能够给与警示，减少了硅片插装的误差，并能提高传送速度，根据光刻速度的快慢进行调整，保持光刻和送片的统一性，还能解决硅片被卡住的问题，适用不同工作状况，带来更好的使用前景。

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域，具体为一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置。

背景技术

光刻机又名掩模对准曝光机，光刻的过程是在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。取片装置是光刻机中重要的部位，光刻机在光刻的过程中，需要利用取片装置将片盒中的硅片取出然后再传递给其他送片结构，取片装置的应用越来越广泛，因此，对取片装置的需求日益增长。

现有的光刻机取片装置在使用时存在一定的弊端，硅片的插装容易产生误差，对于操作中的失误不能及时观察到，予以改变，送片速度慢，赶不上光刻速度，导致装置运行不同步，在操作过程中带来了一定的不利影响，因此，针对上述问题提出一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置，包括主体箱与控制面板，所述主体箱的下端外侧设有防震垫，所述主体箱的上端外侧设有激光传感器与观察窗，且激光传感器固定安装在观察窗的水平一侧，所述激光传感器的内部固定安装有红外发光管与接收器，所述激光传感器的下端外侧穿过主体箱的内表面固定安装有传感杆，所述激光传感器的上端外表面靠近接收器的一侧设有闪光灯头，所述主体箱的一端外侧穿过主体箱的内部设有送片台，且送片台的上端外表面活动安装有传送带，所述主体箱的外表面靠近传送带的上方设置有升降帘，所述控制面板固定安装在主体箱的一端外表面靠近观察窗的一侧，所述主体箱的内部设有传动轮与硅片盒，所述传动轮的水平一侧固定安装有双压伺服电机，所述硅片盒的上端外侧设有取片结构，且取片结构的水平一端活动安装有升降结构。

优选的，所述激光传感器的工作温度范围为20度到85度，且激光传感器的集电流动作电流为1.80ma。

优选的，所述观察窗的形状为圆形，所述观察窗的直径为三十厘米。

优选的，所述升降帘活动安装在主体箱的外表面靠近传送带的上方，所述控制面板的外表面设置有若干组按钮。

优选的，所述传动轮的数量为两组，所述两组传动轮分别为主动轮与从动轮。

优选的，所述硅片盒的内部设置有插槽，所述取片结构的下端设置有取片板。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

1、本发明中，通过设置，激光传感器，利用红外线快速确定硅片的数量，并给与警示，减少了硅片插装的误差。

2、本发明中，通过设置观察窗，可以对取片的整个过程进行仔细观察，同时当有硅片卡住时，可以手动取出，提高工作效率。

3.本发明中，通过设置双压伺服电机，提高送片速度，根据光刻速度的快慢进行调整，保持光刻和送片的统一性。

附图说明

图1为本发明一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置的整体结构示意图。

图2为本发明一种减少硅片插装误差的光刻机取片装置的局部视图。