[发明专利]一种硫化锑基光电探测器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201711002158.2 申请日: 2017-10-24
公开(公告)号: CN107819044B 公开(公告)日: 2019-08-23
发明(设计)人: 谭新玉;肖业权;朱宏伟;李昌黎;张礼 申请(专利权)人: 三峡大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/032;H01L31/108;H01L31/18
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 成钢
地址: 443002*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 硫化锑 光电 探测器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种硫化锑基光电探测器的制备方法,其特征在于,具有以下的工艺过程和步骤:

(1)衬底预处理:掺杂氟的SnO2透明导电玻璃作为衬底,用去离子水、乙醇和丙酮分别超声清洗5-15 分钟,随后用去离子水冲洗干净并氩气吹干后备用;

(2)TiO2薄膜的制备:将四异丙醇钛乙醇溶液与盐酸乙醇溶液混合均匀后,旋涂到洗净的FTO 上,旋 涂前用高温胶带粘住FTO边缘0.2cm作为器件的背电极,最后将带有二氧化钛前驱体的FTO 放入管式电阻炉中,在400-600oC下空气中退火30-50min;

(3)Sb2S3薄膜的制备:采用热蒸镀法在FTO/TiO2沉积硫化锑薄膜,再在沉积的硫化锑薄膜表面旋涂硫代乙酰胺DMF溶液,然后在氩气氛围中退火30~60 min,退火温度为200~400℃,采用热蒸镀法在FTO/TiO2沉积硫化锑薄膜,在沉积前将装置真空室的压强抽至5x10-4Pa以下;通过调节加热电流来控制样品沉积速度,沉积速度控制在10~30 nm/s,硫化锑薄膜沉积的厚度为200~500nm;

(4)石墨烯的生长:使用化学气相沉积法CVD生长石墨烯薄膜,将铜箔在氩气气氛中从室温加热到900-1200 ℃,在900-1200 ℃条件下通入氢气,退火30~40 min分钟后,再通入氩气、氢气、甲烷的混合气体,反应10~30 min,再在氩气保护下,降温至室温,将生长了石墨烯的铜箔用硝酸铁溶液刻蚀后用去离子水清洗,得到石墨烯备用,该步骤中,通入氩气、氢气、甲烷的混合气体中,氩气的通入速度为300 mL/min、氢气的通入速度为30~50 mL/min、甲烷的通入速度为10~20 mL/min;

(5)光电探测器的组装:将(4)中生长的石墨烯薄膜转移到(3)中制备的硫化锑薄膜上,然后用银胶、银线做为电极,得到TiO2/Sb2S3/石墨烯光电探测器。

2.权利要求1所述的硫化锑基光电探测器的制备方法,其特征在于,硫代乙酰胺DMF溶液的浓度为0.001g/mL~0.1g/mL。

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