[发明专利]彩膜基板及其制备方法、触控显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底具有交流信号区与直流信号区，所述直流信号区环绕所述交流信号区设置；

第一黑矩阵，所述第一黑矩阵设置在所述交流信号区中；

第二黑矩阵，所述第二黑矩阵设置在所述直流信号区中；

其中，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵间隔设置或由电阻率不同的材料形成。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵之间的间距为20～40微米。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一黑矩阵以及所述第二黑矩阵分别独立地由黑矩阵树脂形成，构成所述第一黑矩阵的所述黑矩阵树脂中导电颗粒的含量，与构成所述第二黑矩阵的所述黑矩阵树脂中导电颗粒的含量不同。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，形成所述第一黑矩阵材料的电阻率，小于形成所述第二黑矩阵材料的电阻率。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二黑矩阵为口字型结构。

6.一种触控显示装置，其特征在于，包括：

权利要求1～5任一项所述的彩膜基板；

阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒设置；

液晶层，所述液晶层设置在所述彩膜基板与所述阵列基板之间；

触控电极层，所述触控电极层设置在所述彩膜基板与所述阵列基板之间，或设置在所述彩膜基板远离所述阵列基板的一侧。

7.根据权利要求6所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控电极层包括多个自容式触控电极，所述自容式触控电极在所述彩膜基板的衬底上的投影，位于第一黑矩阵在所述衬底上的投影内。

8.一种制备彩膜基板的方法，其特征在于，所述彩膜基板包括：衬底，所述衬底具有交流信号区与直流信号区，所述直流信号区环绕所述交流信号区设置，以及第一黑矩阵和第二黑矩阵，所述方法包括：

在所述交流信号区中形成所述第一黑矩阵；以及

在所述直流信号区中形成所述第二黑矩阵，其中，

所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵间隔设置或由电阻率不同的材料形成。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

在所述衬底上形成黑矩阵层；

利用构图工艺，去除所述直流信号区以及所述交流信号区交界区域的所述黑矩阵层，以便形成所述第一黑矩阵以及所述第二黑矩阵。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

在所述衬底上形成第一黑矩阵层，并去除所述直流信号区的所述第一黑矩阵层，以便形成所述第一黑矩阵；

在所述衬底上形成第二黑矩阵层，并去除所述交流信号区的所述第二黑矩阵层，以便形成所述第二黑矩阵；

其中，形成所述第一黑矩阵层与所述第二黑矩阵层的材料的电阻率不同。