[发明专利]过孔逆角检测方法和装置

权利要求书

1.一种过孔逆角检测方法，其特征在于，包括：

采用金相显微镜对TFT阵列基板进行拍摄，获取过孔图像；

解析所述过孔图像，获取所述过孔外的灰度值以及所述过孔内的灰度值，其中，所述过孔内是经过刻蚀SiN层后裸露的金属层，所述过孔外为SiN层；

检测所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差是否小于第一预设阈值；

当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，判定所述过孔存在逆角，即判定所述过孔内侧边缘附近的金属已大部分被刻蚀，这样，导致金属层表面不平坦；

所述当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，判定所述过孔存在逆角的步骤包括：

当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，检测所述过孔内的灰度值的波动是否大于第二预设阈值；

当所述过孔内的灰度值的波动大于所述第二预设阈值时，判定所述过孔存在逆角。

2.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述检测所述过孔内的灰度值的波动是否大于第二预设阈值的步骤包括：

检测所述过孔内的灰度值的最大值与最小值之差是否大于所述第二预设阈值。

3.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述当所述过孔内的灰度值的波动大于所述第二预设阈值时，判定所述过孔存在逆角的步骤包括：

当所述过孔内的灰度值的波动大于所述第二预设阈值时，根据所述过孔内的灰度值的波动获取所述过孔内的灰度值曲线，检测所述过孔内的灰度值曲线的波峰和/或波谷的数量是否大于第三预设阈值；

当所述过孔内的灰度值曲线的波峰和/或波谷的数量大于所述第三预设阈值时，判定所述过孔存在逆角。

4.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述检测所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差是否小于第一预设阈值的步骤包括：

检测所述过孔外的灰度值的平均值与所述过孔内的灰度值的平均值之差是否小于所述第一预设阈值。

5.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述检测所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差是否小于第一预设阈值的步骤包括：

检测所述过孔外的灰度值的最大值与所述过孔内的灰度值的最大值之差是否小于所述第一预设阈值。

6.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述第一预设阈值根据所述TFT阵列基板的制备工艺、以及所述过孔刻蚀工艺进行设定。

7.根据权利要求1所述的过孔逆角检测方法，其特征在于，所述采用金相显微镜对TFT阵列基板进行拍摄，获取过孔图像的步骤包括：

采用金相显微镜由垂直于所述TFT阵列基板的方向对所述TFT阵列基板进行拍摄，获取所述过孔图像。

8.一种过孔逆角检测装置，其特征在于，包括：

过孔图像获取模块，用于采用金相显微镜对TFT阵列基板进行拍摄，获取过孔图像；

灰度值获取模块，用于解析所述过孔图像，获取所述过孔外的灰度值以及所述过孔内的灰度值，其中，所述过孔内是经过刻蚀SiN层后裸露的金属层，所述过孔外为SiN层；

检测模块，用于检测所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差是否小于第一预设阈值；

判定模块，用于当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，判定所述过孔存在逆角，即判定所述过孔内侧边缘附近的金属已大部分被刻蚀，这样，导致金属层表面不平坦，所述当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，判定所述过孔存在逆角的步骤包括：

当所述过孔外的灰度值与所述过孔内的灰度值之差小于所述第一预设阈值时，检测所述过孔内的灰度值的波动是否大于第二预设阈值；

当所述过孔内的灰度值的波动大于所述第二预设阈值时，判定所述过孔存在逆角。