[发明专利]一种在ITO表面进行化学镀铜镍合金的方法

说明书

一种在ITO表面进行化学镀铜镍合金的方法，包括以下步骤：脱脂→微蚀→活化→还原处理→化学镀铜镍合金→烘烤除氢，活化：将经过微蚀处理的ITO玻璃置于钯活化剂中进行活化，活化后过水漂洗；化学镀铜镍合金：将经过还原处理的ITO玻璃置于PH＝4‑5、皮膜应力为±0的化学镀液中进行化学镀铜镍合金，之后将已经化学镀铜镍合金的ITO玻璃过水漂洗，其中，化学镀液的成分包括：NiSO₄·6H₂O：20‑26g/L、CuSO₄·5H₂O：18‑22g/L、NaH₂PO₂·H₂O：16‑20g/L、醋酸：27‑33g/L、丙酸：10‑14g/L、稳定剂：1.8‑2.2mg/L。

技术领域

本发明涉及化学金属镀层技术领域，具体涉及一种在ITO表面进行化学镀铜镍合金的方法。

背景技术

ITO薄膜是一种半导体材料，具有优异的光电特性和导电性，在触摸屏技术方面得到了广泛的应用。在电容式触摸屏玻璃基板表面进行ITO溅镀后，使其成为双面ITO，不在同一面的ITO膜需要通过其四边边缘的ITO导线连通，为了降低控制芯片输入阻抗限制，就必须降低边缘的ITO电阻，而在ITO连通导线上覆盖一层金属镍层用于大大降低其电阻。

化学镀镍又称无电解镀镍，其工艺是美国A.Brenner和G.Riddel于1946年在实验室研究成功的，已在工业中得到了广泛的应用。化学镀镍在触摸屏功能片的ITO连通到线上的应用较少，且存在以下问题，在化学镀镍的活化步骤中，现有技术采用PdCl₂作为活化剂，会导致电极与电极之间不需镀镍的地方镀上导电物质，从而镀镍效果较差，中国专利文献CN 104445997 A公开了一种电容式触摸屏表面进行化学镀镍的方法，包括以下步骤：将ITO薄膜玻璃一次进行脱脂处理、蚀刻处理、活化处理、还原处理和化学镀镍，活化处理采用的活化剂按照如下的方法制备：将PdCl₂、去离子水、浓盐酸混合，在50℃下加热，得到H₂PdCl₄溶液；向所述H₂PdCl₄溶液中加入二亚乙基三胺、氯化亚锡、氯化钾，在50℃下保持4h，蒸除溶剂后得到钯复合物；将钯复合物溶于N-甲基吡咯烷酮中得到钯复合物的NMP溶液，最后将钯复合物的NMP溶液与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合，得活化剂，与现有技术相比，采用上述发明制备的活化剂进行活化，避免了在化学镀镍步骤中电极与电极之间不需镀处被镀上导电物质，从而保证了具有良好的镀镍效果，但是金属镍层降低的ITO连通导线的电阻小、导电力不强，有待进一步改进。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的缺点，提供一种电阻小、导电力强的在ITO表面进行化学镀铜镍合金的方法。

本发明采用如下技术方案：

一种在ITO表面进行化学镀铜镍合金的方法，包括以下步骤：脱脂→微蚀→活化→还原处理→化学镀铜镍合金→烘烤除氢，

活化：将经过微蚀处理的ITO玻璃置于钯活化剂中进行活化，活化后过水漂洗，其中，活化剂按照如下方法制备：将PdCl₂、去离子水、浓盐酸混合加热制得到H₂PdCl₄溶液；向所述H₂PdCl₄溶液中加入二亚乙基三胺、氯化亚锡、氯化钾，在45-55℃下保持3-5h，蒸除溶剂后得到钯复合物；将钯复合物溶于N-甲基吡咯烷酮中得到钯复合物的NMP溶液，最后将钯复合物的NMP溶液与二乙二醇单乙醚、二缩水甘油醚丁烷混合，得活化剂；