[发明专利]抗蚀剂组合物和图案化方法

权利要求书

1.正型抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含碘化芳族基团的羧酸的金属盐，其中所述含碘化芳族基团的羧酸的金属盐具有式(A)：

其中，R¹为氢，羟基，C₁-C₆直链、支链或环状的烷基，C₁-C₆直链、支链或环状的烷氧基，C₂-C₆直链、支链或环状的酰氧基，氟，氯，溴，氨基，-NR²-C(＝O)-R³或-NR²-C(＝O)-O-R³，R²为氢或C₁-C₆直链、支链或环状的烷基，R³为C₁-C₆直链、支链或环状的烷基或C₂-C₈直链、支链或环状的烯基，G为单键或可以包含醚、羰基、酯、酰胺、磺内酯、内酰胺、碳酸酯、卤素、羟基或羧基结构部分的C₁-C₂₀(p+1)价连接基团，p为1至3的整数，q为1至5的整数，r为0至3的整数，Mⁿ⁺为选自以下的金属离子：Na⁺、Mg²⁺、K⁺、Ca²⁺、Rb⁺、Sr²⁺、Cs⁺、Ba²⁺、Co²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺、Cd²⁺、Sn⁴⁺、Sb³⁺、Zr⁴⁺、Hf⁴⁺、Ce³⁺、Al³⁺和In³⁺，表示Mⁿ⁺的价数的n为1至4的整数，

其中所述基础聚合物包括具有式(a1)的重复单元或具有式(a2)的重复单元:

其中，R^A各自独立地为氢或甲基，R⁴¹和R⁴²各自独立地为酸不稳定性基团，X为单键、亚苯基、亚萘基或包含酯结构部分或内酯环的C₁-C₁₂连接基团，Y为单键或酯基团。

2.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其进一步包括能够产生磺酸、磺酰亚胺或磺酰甲烷的产酸剂。

3.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其进一步包括有机溶剂。

4.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其进一步包括溶解抑制剂。

5.根据权利要求1所述的正型抗蚀剂组合物，其为化学增幅正型抗蚀剂组合物。