[发明专利]加工装置有效
申请号: | 201710839375.0 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN107887313B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 山中聪 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;B24B7/22;B24B37/10;B24B37/34 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;乔婉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加工 装置 | ||
1.一种加工装置,其中,
该加工装置具有:
保持工作台,其对板状工件的基质进行吸引保持,该板状工件由晶片和面积比晶片大的该基质按照中心一致的方式粘合而成,具有该基质向晶片的外周外侧探出而得的探出部;
加工单元,其对保持在该保持工作台上的板状工件的晶片的上表面进行加工;
清洗单元,其对由该加工单元进行了加工的晶片的被加工面进行清洗;以及
搬送机构,其将晶片从该保持工作台向该清洗单元搬送,
该搬送机构包含:
保持部,其对该探出部进行保持;
搬送垫,其具有与该保持部所保持的板状工件的晶片的上表面面对的下表面,该搬送垫的下表面的面积大于等于该晶片的上表面的面积;以及
水提供单元,其从该搬送垫的该下表面提供水,
在该保持部所保持的板状工件的该上表面与该搬送垫的该下表面之间具有间隙,当利用该水提供单元对该间隙提供水而使该间隙被水充满时,将从该水提供单元提供的水截断从而在该间隙被水充满的状态下将板状工件从该保持工作台向该清洗单元搬送。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造