[发明专利]一种离子注入机钨金属污染的监控方法

权利要求书

1.一种离子注入机钨金属污染的监控方法，其特征在于，包括下列步骤：

测量BF2+的质谱分析曲线，并获取所述BF2+质谱分析曲线的最大束流值；

测量WF++的质谱分析曲线，并获取所述WF++质谱分析曲线的最大束流值；

计算所述WF++质谱分析曲线的最大束流值与所述BF2+质谱分析曲线的最大束流值的比值，从而得到在BF2+注入时钨金属污染的比例；

将计算得到的钨金属污染比例与设定的长期规格进行比较，当超过规格时，分析原因并进一步检查机台是否存在异常，排除问题后重新进行监测。

2.根据权利要求1所述的离子注入机钨金属污染的监控方法，其特征在于，所述BF2+离子束流的原子量设定为49±0.5，能量范围为10到35KeV，束流大小范围为3到15mA。

3.根据权利要求1所述的离子注入机钨金属污染的监控方法，其特征在于，所述质谱分析曲线通过离子注入机的质谱仪和法拉第电流探测器进行测量后获取。

4.根据权利要求3所述的离子注入机钨金属污染的监控方法，其特征在于，所述测量BF2+的质谱分析曲线步骤中，质谱仪原子量设定范围为47到51，设定原子量间隔为0.5以内，逐步扫描，得出设定范围内BF2+的质谱分析曲线。

5.根据权利要求3所述的离子注入机钨金属污染的监控方法，其特征在于，所述测量WF++的质谱分析曲线步骤中，质谱仪原子量设定范围为98到106，设定原子量间隔为0.5以内，逐步扫描，得出设定范围内WF++的质谱分析曲线。