[发明专利]TFT‑LCD液晶显示屏制作工艺

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种TFT-LCD液晶显示屏制作工艺。

背景技术

TFT-LCD是薄膜晶体管液晶显示器英文thin film transistor-liquid crystal display字头的缩写。TFT-LCD技术是微电子技术与液晶显示器技术巧妙结合的一种技术。人们利用在Si上进行微电子精细加工的技术，移植到在大面积玻璃上进行TFT阵列的加工，再将该阵列基板与另一片带彩色滤色膜的基板，利用与业已成熟的LCD技术，形成一个液晶盒相结合，再经过后工序如偏光片贴覆等过程，最后形成液晶显示器.

现有技术的显示屏加工，很多是需要人工进行操作，且人工在搬运过程中，容易产生污染物在基板上，从而影响整个液晶显示屏的画质。且传统的TFT-LCD液晶显示屏的成盒工艺中，是将上下两个基板对组后以毛细原理将液晶慢慢吸入，这种方式，需要人工完成，且受制于熟手，且成品率低，还非常浪费时间和浪费液晶，增加了整个TFT液晶显示屏的生产成本，降低了生产效率。

发明内容

针对上述技术中存在的不足之处，本发明提供一种TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，全自动完成，大大节省了人力成本和生产成本，也节约了生产时间，达到快速高效地生产TFT-LCD液晶显示屏的制作。

为了达到上述目的，本发明一种TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，依次包括阵列工艺、彩膜工艺、成盒工艺和模组工艺；

所述成盒工艺包括：

清洗阵列基板和彩膜基板；

在阵列基板或彩膜基板上的显示屏的显示区域内滴注适量的液晶；

在另一外块基板上，对应显示边界区域涂敷一圈封框胶；

在真空环境中，将上下基板精确对合在一起；

在封框胶封闭的显示区域内，液晶均匀扩散充满显示区域；

在紫外光照射和加热条件下，封框胶固化，形成液晶盒。

其中，在阵列基板或彩膜基板上下两块基板精确对合之前，分别在两块基板上涂敷一层有机材料，形成取向膜层，用包裹了化纤或纯棉绒布的滚轮沿特定方向分别高速摩擦取向膜层表面，曲线层涂敷和摩擦取向处理，取向处理后，再滴注液晶。

其中，在当采用大尺寸玻璃基板时，一次形成多个显示屏的阵列基板或彩膜基板，大基板组装后，通过切割，形成多个显示屏的液晶盒。

其中，所述阵列工艺包括：

清洗：采用超纯水或者清洗剂对玻璃基板清洗，去除表面的异物；

成膜工序：在玻璃基板上形成金属、半导体或绝缘体的薄膜；

光刻过程：把薄膜加工成一定的形状，在金属薄膜表面涂敷一层光刻胶，透过掩膜板曝光，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，若没有光刻胶覆盖的薄膜就会被腐蚀掉；用化学玻璃液去除残余的光刻胶，留下了所需形状的金属薄膜，完成一次光刻；

通过等离子增强化学气相淀积在基板上形成绝缘体或半导体薄膜，即通过特定气体在等离子状态下反应，生成物附着在基板表面，形成绝缘体或半导体薄膜，然后通过光刻过程，将绝缘体或半导体薄膜加工成所需的形状；

重复4-5次上述的光刻过程和薄膜淀积过程，各层不同材料和形状的薄膜在玻璃基板上层叠构成薄膜晶体管阵列和互联线，实现TFT基板的制作，阵列基板制作完成。

其中，在成膜工序中，通过溅射形成金属层，在近似真空环境中用电场加速惰性元素离子，轰击金属板材，金属原子被溅射出来，淀积到基板上形成薄膜。

其中，所述彩膜工艺包括：

用清洗剂或超纯水清洗玻璃基板，去处污染物；

在玻璃表面涂敷一层黑色感光树脂层，透过掩膜板曝光、显影，形成黑色网格，即黑矩阵；

黑矩阵形成后，首先涂敷一层感光的红色有机感光层，掩膜曝光，显影成型，形成与像素对应的红色滤光层，

重复上述工艺，依次形成绿、蓝滤光层，填充在黑矩阵内的对应表格内，形成彩膜，

在彩膜的上层，整体淀积一层透明导电薄膜，作为全部像素电压信号的公共电极；

彩膜的最上层，即透明导电薄膜，需要按照类似黑矩阵的制作工艺流程形成一定分布的透明柱状衬垫物，用于彩膜和阵列基板成盒时保持一定的盒厚以填充液晶，这样就构成了彩膜基板。

其中，为保证滤光层特性的稳定，还在红、绿、蓝滤光层上涂覆一层透明有机保护层，即覆盖涂层。

其中，所述模组工艺包括：