[发明专利]TFT‑LCD液晶显示屏制作工艺

权利要求书

1.一种TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，依次包括阵列工艺、彩膜工艺、成盒工艺和模组工艺；

所述成盒工艺包括：

清洗阵列基板和彩膜基板；

在阵列基板或彩膜基板上的显示屏的显示区域内滴注适量的液晶；

在另一外块基板上，对应显示边界区域涂敷一圈封框胶；

在真空环境中，将上下基板精确对合在一起；

在封框胶封闭的显示区域内，液晶均匀扩散充满显示区域；

在紫外光照射和加热条件下，封框胶固化，形成液晶盒。

2.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，在阵列基板或彩膜基板上下两块基板精确对合之前，分别在两块基板上涂敷一层有机材料，形成取向膜层，用包裹了化纤或纯棉绒布的滚轮沿特定方向分别高速摩擦取向膜层表面，曲线层涂敷和摩擦取向处理，取向处理后，再滴注液晶。

3.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，在当采用大尺寸玻璃基板时，一次形成多个显示屏的阵列基板或彩膜基板，大基板组装后，通过切割，形成多个显示屏的液晶盒。

4.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，所述阵列工艺包括：

清洗：采用超纯水或者清洗剂对玻璃基板清洗，去除表面的异物；

成膜工序：在玻璃基板上形成金属、半导体或绝缘体的薄膜；

光刻过程：把薄膜加工成一定的形状，在金属薄膜表面涂敷一层光刻胶，透过掩膜板曝光，光刻胶曝光部分被显影液溶解，留下部分图案呈现所需形状，把基板放入对应腐蚀液或腐蚀气体中，若没有光刻胶覆盖的薄膜就会被腐蚀掉；用化学玻璃液去除残余的光刻胶，留下了所需形状的金属薄膜，完成一次光刻；

通过等离子增强化学气相淀积在基板上形成绝缘体或半导体薄膜，即通过特定气体在等离子状态下反应，生成物附着在基板表面，形成绝缘体或半导体薄膜，然后通过光刻过程，将绝缘体或半导体薄膜加工成所需的形状；

重复4-5次上述的光刻过程和薄膜淀积过程，各层不同材料和形状的薄膜在玻璃基板上层叠构成薄膜晶体管阵列和互联线，实现TFT基板的制作，阵列基板制作完成。

5.根据权利要求4所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，在成膜工序中，通过溅射形成金属层，在近似真空环境中用电场加速惰性元素离子，轰击金属板材，金属原子被溅射出来，淀积到基板上形成薄膜。

6.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，所述彩膜工艺包括：

用清洗剂或超纯水清洗玻璃基板，去处污染物；

在玻璃表面涂敷一层黑色感光树脂层，透过掩膜板曝光、显影，形成黑色网格，即黑矩阵；

黑矩阵形成后，首先涂敷一层感光的红色有机感光层，掩膜曝光，显影成型，形成与像素对应的红色滤光层，

重复上述工艺，依次形成绿、蓝滤光层，填充在黑矩阵内的对应表格内，形成彩膜，

在彩膜的上层，整体淀积一层透明导电薄膜，作为全部像素电压信号的公共电极；

彩膜的最上层，即透明导电薄膜，需要按照类似黑矩阵的制作工艺流程形成一定分布的透明柱状衬垫物，用于彩膜和阵列基板成盒时保持一定的盒厚以填充液晶，这样就构成了彩膜基板。

7.根据权利要求6所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，

为保证滤光层特性的稳定，还在红、绿、蓝滤光层上涂覆一层透明有机保护层，即覆盖涂层。

8.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，所述模组工艺包括：

液晶盒贴附偏光片，使进入液晶盒的光为特定偏正光，构成光学功能完备的液晶屏；

液晶屏引线外延，并配以外围电路，构成标准的电路接口；

和背光源组装，并进行机械加固，由此构成TFT-LCD组件，即模组。

9.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，

液晶屏外连引线，通过各向异性导电胶工艺，进行焊接；焊接完成后，进行背光源的组装工艺，即将连接完驱动集成电路外围电路PCB板焊接的显示屏与背光源组装在一起，并用外边框等固定进行机械加固，背光源组装后，为不发光的液晶显示屏提供光源，另一方面还为液晶屏进行了有效的机械加固。

10.根据权利要求1所述的TFT-LCD液晶显示屏制作工艺，其特征在于，

在50-60摄氏度的残酷环境下将制作好的TFT-LCD液晶屏加上正常信号工作一段时间，踢除不可靠产品，确保产品品质，TFT-LCD制作完成。