[发明专利]OLED-TFT基板及其制造方法、显示面板有效
申请号: | 201710777726.X | 申请日: | 2017-08-31 |
公开(公告)号: | CN107369784B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 周星宇;任章淳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 钟子敏<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | oled tft 及其 制造 方法 显示 面板 | ||
本发明公开一种OLED‑TFT基板及其制造方法、显示面板。本发明设计TFT的半导体图案不仅包括源极图案和漏极图案的接触区,而且作为OLED的阳极,省去制作OLED阳极的这一道黄光制程,并且采用喷墨打印技术形成OLED的有机发射图案,也可以省去一道黄光制程,从而减少黄光制程的道数,降低生产成本。
技术领域
本发明涉及显示领域,具体涉及一种OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)-(Thin Film Transistor,薄膜晶体管)基板及其制造方法、显示面板。
背景技术
OLED显示面板采用自发光器件,具有外观轻薄、功耗低、视角宽等优点,已成为显示领域极具发展潜力的技术。当前,业界一般采用黄光制程来制备OLED显示面板的TFT基板(又称OLED-TFT基板)上具有预定图案的各层结构。黄光制程的原理及过程为:将光刻胶均匀地涂布在将要在其上形成图案的衬底上,利用曝光设备使光刻胶曝光,并对已曝光的光刻胶进行显影处理,以去除已被显影的光刻胶,然后刻蚀去除未被剩余光刻胶遮盖的衬底,最后去除剩余的光刻胶,从而得到预定图案。由于OLED-TFT基板所包含的层结构较多,因而所需要黄光制程的道数较多,这显然不利于降低生产成本。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种OLED-TFT基板及其制造方法、显示面板,能够减少黄光制程的道数,降低生产成本。
本发明一实施例的OLED-TFT基板的制造方法,包括:
在一衬底基材上形成TFT,所述TFT包括贯穿TFT的钝化层和介电层的发光开口,发光开口暴露TFT的半导体图案;
采用喷墨打印技术在发光开口中形成有机发射图案,半导体图案包括沟道区和位于沟道区两侧的第一掺杂区和第二掺杂区,有机发射图案形成于第二掺杂区上;
在钝化层上形成电极图案,所述电极图案覆盖于发光开口中,并覆盖有机发射图案。
本发明一实施例的OLED-TFT基板,包括:
衬底基材;
形成于衬底基材上的TFT,所述TFT包括贯穿TFT的钝化层和介电层的发光开口,发光开口暴露TFT的半导体图案,所述半导体图案包括沟道区和位于沟道区两侧的第一掺杂区和第二掺杂区;
形成于发光开口中的有机发射图案,所述有机发射图案基于喷墨打印技术形成于第二掺杂区上;
形成于钝化层上的电极图案,所述电极图案覆盖于发光开口中,并覆盖有机发射图案。
本发明一实施例的显示面板包括上述OLED-TFT基板。
有益效果:本发明设计TFT的半导体图案不仅包括源极图案和漏极图案的接触区,而且作为OLED的阳极,省去制作OLED阳极的这一道黄光制程,并且采用喷墨打印技术形成OLED的有机发射图案,也可以省去一道黄光制程,从而减少黄光制程的道数,降低生产成本。
附图说明
图1是本发明OLED-TFT基板的制造方法一实施例的流程示意图;
图2是本发明的TFT的制造方法一实施例的流程示意图;
图3是基于图2所示方法制造TFT的场景示意图;
图4是基于图1所示方法制造OLED-TFT基板的场景示意图;
图5是本发明一实施例的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
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