[发明专利]一种脱毒马铃薯原原种高效繁育方法在审

专利信息
申请号: 201710772029.5 申请日: 2017-08-31
公开(公告)号: CN107439199A 公开(公告)日: 2017-12-08
发明(设计)人: 闵康;斯那七皮 申请(专利权)人: 迪庆州农业科学研究所;迪庆州健佳生物科技有限责任公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司11212 代理人: 刘洵
地址: 674499 云南省迪庆*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 脱毒 马铃薯 原种 高效 繁育 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于农作物繁育技术领域,尤其涉及一种脱毒马铃薯原原种高效繁育方法。

背景技术

影响马铃薯产量的一个重要因素是马铃薯的病毒性退化,马铃薯感染病毒后平均减产30-80%,利用生物技术进行脱毒生产无病毒种薯是目前最有效的防治病毒病的方法,在脱毒种薯的繁育生产中,原原种生产是瓶颈。原原种生产产量低、效率差、成本高是制约脱毒马铃薯推广应用的关键。脱毒马铃薯原原种是利用脱毒试管苗在防虫网室大棚内进行生产繁育出来的。而脱毒试管苗是在培养室恒温、高湿、弱光照(灯光)、密闭培养瓶内、通气较差条件下生产的,因而试管苗比较脆嫩、纤弱。直接利用土壤栽插试管苗,试管苗一般均难以成活或成活率极低。

目前一般均采用在防虫网室内利用蛭石、泥炭、珍珠岩等无土栽培基质进行试管苗栽插生产脱毒原原种。无土栽培基质克服了土壤疏松透气不足的缺点,有效提高了试管苗栽插成活率,但无土栽培基质自身基本不具有营养或肥效较低,主要靠营养液喷施,营养供给不足,使之单株结薯个数少、单粒小,我国一般产量在300-500粒/m2,平均单粒重在2-2.5g。同时,全部用无土栽培基质如蛭石、泥炭、珍珠岩等及用营养液喷施成本很高,一般10000m2,栽培基质即需约20万元,同时原原种个体小,使下季原种繁殖生产条件要求高,产量低,这又进一步提高了种薯繁育成本,这些都限制了脱毒马铃薯的种薯繁育及大面积推广应用。

发明内容

本发明为了解决上述技术问题提供一种繁殖效率高,产量高,成活率高、成本低、品质好的脱毒马铃薯原原种,其操作管理简单易行。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下:一种脱毒马铃薯原原种高效繁育方法,包括以下步骤:

A、大棚建设:建设用于脱毒马铃薯原原种繁育的大棚,在大棚外表面用遮阴网覆盖,并在大棚侧面底部设有通风口,通风口处设置有40-60目的防虫网;

B、基质准备:在马铃薯脱毒试管苗移栽前2-3个月,将蘑菇菌包配料、农家肥与复合肥按质量比7:2.95:0.05比例混合、拌匀、作堆,再加入占蘑菇菌包配料、农家肥与复合肥总重量0.001-0.002%的50%多菌灵可湿性粉剂混合均匀,再加入水,使其含水量达到30-40%,优选34%,盖上薄膜进行发酵备用;

C、土壤处理:将大棚内的土壤先进行作畦,畦面宽60-70cm,畦沟宽15-20cm、畦高15-20cm,并在畦沟内设置有滴灌系统;

D、移栽前准备:在畦面上平铺厚度为5-8cm步骤B中发酵后的基质,在畦面上浇透水,熏蒸闷棚2-3d,散气2-3d,然后在畦面上铺设40-60目的防虫网,紧贴于畦面,防虫网上再铺设银-黑双色膜,黑面朝下,银面朝上,并将防虫网与银-黑双色膜拉挺、拉平整,多余部分均匀放入两侧沟中,并在银-黑双色膜上设有多个相互间隔排列的孔洞;

E、脱毒苗准备:将根系长度为1-2cm的脱毒马铃薯原原种试管苗移出试管,清洗根系,然后在水培苗床内培养15-20d,进行壮苗和炼苗;

F、脱毒苗移栽:将步骤E中处理后的脱毒马铃薯原原种试管苗插入银-黑双色膜的孔洞内,不穿过畦面上的防虫网孔洞,然后采用步骤B中发酵得到的基质填充银-黑双色膜的孔洞,固定脱毒马铃薯原原种试管苗;

G、移栽后管理:对移栽后的脱毒马铃薯原原种试管苗进行水分管理、病虫害防治、温度以及光照进行管理;

H、采收:对移栽25-30d后,掀开一侧的银-黑双色膜,银-黑双色膜下的防虫网上生长大量的马铃薯匍匐茎,当一级匍匐茎顶端脱毒马铃薯原原种小种薯长至5-8g,即可分批采收,随着二级、三级匍匐茎顶端脱毒马铃薯原原种小种薯长至5-20g,即可采收,采收一次的时间间隔为7-15d,整个生育期内采收4-5次,直至地上部分开始落黄,最后采收完剩下的脱毒马铃薯原原种小种薯。

本发明的有益效果是:本发明方法其脱毒马铃薯原原种繁殖效率高,产量高,成活率高、成本低、品质好,其操作管理简单易行。

在上述技术方案的基础上,本发明还可以做如下改进。

作为本发明进一步优选,在步骤A中,所述大棚的高度为550-600cm,所述通风口的高度为60-70cm。

作为本发明进一步优选,在步骤B中,所述复合肥为氮肥、磷肥与钾肥按质量比1:1:1混合得到,所述发酵时间为10-15d。

作为本发明进一步优选,在步骤D中,相邻所述银-黑双色膜上的孔洞间距为20cm,其孔径为2-3cm。

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