[发明专利]掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器及其应用电路模块有效

专利信息
申请号: 201710757483.3 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN107546283B 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 周静;龙兴明 申请(专利权)人: 重庆大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/09;H01L31/18;G01J1/42;G01J1/44
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 400044 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 掩埋 电极 gan 紫外 光电 探测 传感器 及其 应用 电路 模块
【说明书】:

发明涉及一种掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器及其应用电路模块,属于光电技术领域。本发明利用垂直刻蚀工艺把传统金属‑半导体‑金属(MSM)结构GaN紫外探测器的平面型电极进行立体嵌入设计,形成掩埋式电极的GaN MSM结构,获得高速、高灵敏度的紫外光探测传感器;针对该器件的特性,设计阻抗匹配电流‑电压转换放大电路,提升动态响应特性,获得微瓦、纳秒级入射紫外光的伏特级检测电压实时输出。本发明能实现紫外探测的电源供电、输出信号的标准化,降低应用成本,适用于电力设备放电、交通运输工具的起停、军民用火焰检测等领域。

技术领域

本发明属于光电技术领域,涉及一种掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器及其应用电路模块。

背景技术

紫外光尤其是280nm波长附近的深紫外光在空间传播时具有衰减小、抗干扰能力强等优点,它是日盲通信、火箭或火焰识别以及高速光互联的理想光波段。紫外光的检测是实现上述各种紫外光应用的关键核心技术之一。

在过去二十年内,基于GaN半导体的紫外光探测器得到了极大发展,研制的GaN紫外探测器相对传统的硅基光电探测器具有更高的灵敏度,并且对可见光波段具有更好的抑制能力;同时,为满足军民两用的不同需求,采用了参Fe等元素改善材料的电光特性,采用了金属-半导体-金属(Metal-Semiconductor-Metal,MSM)结构增强器件的光电检测性能;以上各种措施进一步提升了GaN半导体紫外光探测器的性能。

但是,各类应用中紫外光辐射往往功率弱,持续时间短,而现有GaN紫外光探测器不能满足微瓦、纳秒级的紫外光检测需求。衡量紫外光探测器检测性能的关键指标包括:检测灵敏度、响应速度以及制造成本,这三要素也是当前制约紫外检测技术推广使用的瓶颈。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器及其应用电路模块,通过优化GaN紫外探测传感器的器件结构,设计配套的检测电路,实现高速、高灵敏度的紫外光探测模块的优化设计。

为达到上述目的,本发明提供如下技术方案:

掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器,包括衬底部分、GaN外延层、电极I和电极II;所述衬底部分位于底层,与GaN外延层相连;所述GaN外延层厚度为hGaN;所述电极I和电极II不相连,所述电极I和电极II呈交错齿状,错齿宽度为λ,错齿间距为λ,所述电极I和电极II以深度d掩埋在GaN外延层内,hGaN>d。

进一步,该传感器长宽尺寸范围为0.5mm~5mm,λ取值范围为1μm~6μm,d取值范围为0.2μm~3μm,hGaN取值范围为3μm~10μm。

进一步,该方法具体为首先在所述衬底部分上外延生长GaN层,即GaN外延层,然后对GaN外延层进行垂直刻蚀,形成交错齿状结构,最后进行掩膜蒸镀完成电极的制作。

进一步,包括掩埋式电极的GaN紫外光电探测传感器、与其匹配的电流-电压转换放大电路和高通滤波器;

所述电流-电压转换放大电路包括低噪声放大器U1A、电阻R1、电阻R2、电阻R3、电阻R4、电阻R5、电容C1、电容C2和电容C3构成的阻抗匹配电流-电压转换放大电路;

所述高通滤波器包括低噪声放大器U2A、电阻R6、电阻R7、电阻R8、电阻R9、电阻R10、电容C4、电容C5和电容C6;

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