[发明专利]一种喷涂式刻蚀槽用限喷装置

说明书

本发明公开了一种喷涂式刻蚀槽用限喷装置，包括限喷箱、以及依次固定于限喷箱内腔中的导液管、限流块和分流箱；所述限流块开设有插槽，所述插槽中活动插设有挡板，所述挡板固定连接有电动推杆；所述分流箱侧壁对应导液孔处开设有分流孔，所述分流箱的内腔底壁固定有分流板，所述分流箱底壁与限喷箱底壁贯通开设有泄流孔，且所述泄流孔设置于分流板和分流孔之间，所述分流箱远离分流孔一侧侧壁与限喷箱侧壁贯通开设有喷液孔。本发明通过限流块内挡板的作用，当处于喷涂两片硅片的中间空隙时间时，使刻蚀液从泄流孔流出，阻止了刻蚀液飞溅到硅片扩散面情况的发生，大大提高硅片刻蚀质量，减小经济损失。

技术领域

本发明涉及硅片刻蚀技术领域，具体为一种喷涂式刻蚀槽用限喷装置。

背景技术

太阳能电池片的制造过程需要经过很多个步骤，其中对硅片的刻蚀工艺也是必不可少的一部分，硅片在刻蚀过程中，需要使用刻蚀液对硅片除了扩散面以外的所有面进行刻蚀，目前常用的刻蚀槽机器均采用粘液滚轮，来对硅片进行刻蚀，通过粘液滚轮将刻蚀液粘在滚轮上，然后滚轮将刻蚀液传递到硅片背面完成刻蚀，对于硅片的侧壁采用喷嘴喷涂刻蚀液进行刻蚀，从而可以很好的将除了扩散面以外的四个侧壁面均刻蚀到，大大提高了硅片刻蚀质量。

但是对于采用喷嘴对硅片侧壁进行刻蚀的方法，存在以下较为明显的缺陷：因为硅片在刻蚀槽内的滚轮上进行传送运动，每两块硅片间均设置有间隔，所以当喷嘴向上一块硅片的侧壁进行喷涂刻蚀后，在喷涂到下一块硅片前，此段中间空隙的时间，喷嘴喷出的刻蚀液会直接喷涂到刻蚀槽液面上，对液面造成冲击，从而导致液面刻蚀液飞溅，也就会导致刻蚀液溅起，落到硅片的扩散面上造成刻蚀，进而生产出大量劣质硅片，严重影响硅片刻蚀质量，造成巨大经济损失。

发明内容

本发明的目的在于提供一种喷涂式刻蚀槽用限喷装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种喷涂式刻蚀槽用限喷装置，包括限喷箱、以及依次固定于限喷箱内腔中的导液管、限流块和分流箱；

所述限喷箱侧壁对应导液管处开设有进液孔，所述限流块开设有插槽，所述插槽内侧壁对应导液管对称开设有导液孔，所述插槽中活动插设有挡板，所述挡板固定连接有电动推杆；

所述分流箱侧壁对应导液孔处开设有分流孔，所述分流箱的内腔底壁固定有分流板，所述分流箱底壁与限喷箱底壁贯通开设有泄流孔，且所述泄流孔设置于分流板和分流孔之间；

所述分流箱远离分流孔一侧侧壁与限喷箱侧壁贯通开设有喷液孔。

优选的，所述挡板外壁套设有密封层。

优选的，所述分流板远离泄流孔一端固定有辅助块。

优选的，所述限喷箱外侧壁对应喷液孔处固定有喷射头，所述喷射头远离喷液孔一端开设有喷射孔。

优选的，所述分流板与喷液孔之间活动设置有缓冲板，所述缓冲板下端固定有弹簧。

优选的，所述缓冲板侧壁均固定有密封层。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明中刻蚀液从进液孔进入到限喷箱内，然后通过导液管的传递作用，进入到限流块的导液孔中，通过电动推杆带动限流块内挡板上下移动，起到调节刻蚀液流量大小的作用，从而对刻蚀液进入分流孔的流量大小进行控制；通过对刻蚀液进入到分流箱内的流量大小进行控制，控制刻蚀液流动到分流板的两侧，当刻蚀液流量小时，刻蚀液从分流孔进入到分流箱内时，根据刻蚀液自身重力落入到泄流孔一侧，然后从泄流孔向下流出，当刻蚀液流量大时，刻蚀液从分流孔进入到分流箱内时，根据刻蚀液自身重力，能够落入到喷液孔一侧，然后从喷液孔喷出，进行刻蚀。