[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种基板处理装置，包括：多个夹具构件(13)，其通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势；处理液供给单元，向基板(W)供给处理液；以及热源，配置于基板的上方。夹具构件(13)包括：导电性构件(41)，至少一部分由含有碳的材料形成，包括：底座部(46)，配置在比基板(W)靠近下方的位置；以及接触部(47)，从上述底座部(46)的上表面(46a)向上方突出，按压于基板(W)的外周部；以及夹具盖(42)，安装于导电性构件(41)，俯视时未覆盖底座部(46)的至少一部分而覆盖接触部(47)。

技术领域

本发明涉及对基板进行处理的基板处理装置。作为处理对象的基板，例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子体显示器用基板、FED(Field Emission Display：场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等。

背景技术

在半导体装置或液晶显示装置等的制造工序中，使用对半导体晶片或液晶显示装置用玻璃基板等基板进行处理的基板处理装置。在日本国特开2014-241390号公报中公开了一种一张一张进行处理的单张式的基板处理装置。

该基板处理装置具备：旋转卡盘，其一边将基板保持为水平，一边使基板以通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转；喷嘴，其朝向基板的上表面喷出药液或冲洗液等的处理液；以及红外线加热器，其朝向基板的上表面发光。旋转卡盘具备按压在基板的外周部的多个夹具销。

夹具销包括：导电性构件，其具有导电性；以及销盖，其覆盖导电性构件。导电性构件包括：底座部，其配置于旋转基座的上方；以及把持部，其从底座部的上表面向上方突出。销盖在俯视时覆盖导电性构件的大致整个区域。导电性构件由销盖保护免受红外线加热器的光的影响。由此，能够防止因温度上升引起的导电性构件的变形。

在日本国特开2014-241390号公报中，由于销盖覆盖导电性构件，因此能够保护导电性构件免受热源的热的影响。但是，在该夹具销中，导电性构件和销盖之间容易残留处理液。特别地，由于销盖覆盖导电性构件的大致整个区域，因此导致处理液的残留量增加。残留在导电性构件和销盖之间的处理液，有时变成成为汚染基板的原因的颗粒。

发明内容

此处，本发明的一个目的在于，保护夹具构件的导电性构件免受热源的影响，并且减少残留在导电性构件和夹具盖之间的处理液。

本发明的一实施方式提供一种基板处理装置，其中，包括：多个夹具构件，通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势；处理液供给单元，向由多个上述夹具构件保持的上述基板供给处理液；热源，配置于由多个上述夹具构件保持的上述基板的上方；夹具开闭机构，在关闭状态与打开状态之间对多个上述夹具构件进行切换，上述关闭状态是多个上述夹具构件按压于上述基板的外周部的状态，上述打开状态是解除多个上述夹具构件对上述基板的按压的状态；多个上述夹具构件中的至少一个包括：导电性构件，至少一部分由含有碳的材料形成，包括：底座部，配置在比上述基板靠近下方的位置；以及接触部，从上述底座部的上表面向上方突出，按压于上述基板的外周部；以及夹具盖，安装于上述导电性构件，俯视时，上述接触部被上述夹具盖覆盖，上述底座部的至少一部分未被上述夹具盖覆盖。

根据该结构，按压于基板的外周部的接触部，设置在夹具构件的导电性构件上。接触部俯视时被夹具盖覆盖。因此，能够保护接触部免受热源的影响。而且，由于设置于导电性构件的底座部的一部分或全部俯视时未被夹具盖覆盖，因此与底座部的大部分被夹具盖覆盖的情况比较，能够减少残留在导电性构件和夹具盖之间的处理液。而且，底座部比基板配置于下方，从配置于基板的上方的热源向下方离开。因此，即使底座部未被夹具盖覆盖，底座部与从底座部的上表面向上方突出的接触部比较时，不容易受到热的影响。由此，能够防止因温度上升引起的导电性构件的变形，并且减少因残留处理液引起的颗粒。