[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 201710622173.0 | 申请日: | 2017-07-27 |
公开(公告)号: | CN107665838B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 岩田敬次;岩见优树;小林知之;天久贤治;佐藤昌治 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 宋晓宝;向勇 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,其中,包括:
多个夹具构件,通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势;
处理液供给单元,向由多个上述夹具构件保持的上述基板供给处理液;
热源,配置于由多个上述夹具构件保持的上述基板的上方;
夹具开闭机构,在关闭状态与打开状态之间对多个上述夹具构件进行切换,上述关闭状态是多个上述夹具构件按压于上述基板的外周部的状态,上述打开状态是解除多个上述夹具构件对上述基板的按压的状态;
多个上述夹具构件中的至少一个包括:
导电性构件,至少一部分由含有碳的材料形成,包括:底座部,配置在比上述基板靠近下方的位置;以及接触部,从上述底座部的上表面向上方突出,按压于上述基板的外周部;以及
夹具盖,安装于上述导电性构件的上述接触部,俯视时,上述接触部被该夹具盖覆盖,而上述底座部的至少一部分未被该夹具盖覆盖。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖在俯视时覆盖在上述导电性构件中位于最上方的上述接触部的顶面的整个区域。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖包括盖部,上述盖部配置于在上述导电性构件中位于最上方的上述接触部的顶面的上方,在上述盖部的下表面和上述接触部的顶面之间形成有液体通过的间隙。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖包括:盖部,上述盖部配置于在上述导电性构件中位于最上方的上述接触部的顶面的上方;以及插入轴,插入在上述接触部的顶面开口的插入孔。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖还包括钩部,上述钩部从上述插入轴的外周面突出,
上述钩部插入从上述插入孔的内周面凹陷而形成的钩插入孔。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖在俯视时覆盖在上述导电性构件中位于最上方的上述接触部的顶面,
上述夹具盖的外缘的至少一部分俯视时与上述接触部的顶面的外缘重叠。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其中,
上述夹具盖在俯视时覆盖在上述导电性构件中位于最上方的上述接触部的顶面,并从上述接触部的顶面的外缘突出。
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