[发明专利]用于颗粒和金属性能增强的ESC陶瓷侧壁修饰

权利要求书

1.一种用于衬底处理系统的衬底支撑件，所述衬底支撑件包括：

基板；

布置在所述基板上的陶瓷层，其中所述陶瓷层包括下表面、配置为支撑衬底的上表面、和围绕从所述下表面延伸到所述上表面的所述陶瓷层的周边的侧壁，并且其中所述陶瓷层包括第一材料；

设置在所述基板和所述陶瓷层之间的接合层；和

形成在所述陶瓷层的所述侧壁上的保护层，其中所述保护层之后包括与所述第一材料不同的第二材料。

2.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述第二材料是基于非氧化铝的材料。

3.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述第二材料是氧化钇喷涂。

4.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述第二材料比所述第一材料具有对等离子体更大的耐性。

5.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述保护层的厚度在0.005”至0.010”之间。

6.一种形成用于衬底处理系统的衬底支撑件的方法，所述方法包括：

提供基板；

在所述基板上沉积接合层；

在所述基板上布置陶瓷层，其中所述陶瓷层包括下表面、配置为支撑衬底的上表面、和围绕从所述下表面延伸到所述上表面的所述陶瓷层的周边的侧壁，并且其中所述陶瓷层包括第一材料；以及

以下中的至少一个步骤：

在所述陶瓷层的所述侧壁上形成保护层，其中所述保护层之后包括与所述第一材料不同的第二材料，

抛光所述陶瓷层的所述侧壁，以及

酸蚀刻所述陶瓷层的所述侧壁。

7.根据权利要求6所述的衬底支撑件，其中所述第二材料是基于非氧化铝的材料。

8.根据权利要求6所述的衬底支撑件，其中形成所述保护层包括在所述陶瓷层的所述侧壁上施加氧化钇喷涂。

9.根据权利要求6所述的衬底支撑件，其中所述第二材料比所述第一材料具有对等离子体更大的耐性。

10.根据权利要求6所述的衬底支撑件，其中抛光所述陶瓷层的所述侧壁包括将所述侧壁抛光至小于30微英寸的表面粗糙度。