[发明专利]一种芘并咪唑衍生物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种芘并咪唑衍生物，其特征在于，具有如下结构通式(A)：

其中，R₁和R₂独立选自苯基、1-萘基、2-萘基、2-蒽基、9-蒽基、9-(10-苯基)-蒽基、9-(10-(1-萘基))-蒽基、9-(10-(2-萘基))-蒽基、1-芘基、2-芘基、C₆～C₂₄芳烃、多环芳烃或烷基取代的多环芳烃。

2.根据权利要求1所述的衍生物，其特征在于，所述衍生物为下列化学式的衍生物：

3.权利要求1或2所述的芘并咪唑衍生物的制备方法，包括如下步骤：

(1)将芘经氧化反应氧化为4,5-芘二醌；

(2)将步骤(I)所得4,5-芘二醌采用Debus-Radziszewski咪唑合成法得到9-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑或10-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑或9,10-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑；

(3)将步骤(2)所得9-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑或10-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑或9,10-(4-溴基)-9-氢-芘并咪唑采用Suzuki偶联反应得到9-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑或10-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑或9,10-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑；

(4)将步骤(3)所得9-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑或10-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑或9,10-(4-频哪醇硼酸酯)-9-氢-芘并咪唑采用Suzuki偶联反应得到通式(A)所示的衍生物。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中氧化反应的氧化剂为氧气、臭氧、高锰酸钾、重铬酸钾、过氧化氢或高碘酸钠中的1种或2种以上的组合；

优选地，氧化反应所用溶剂为水、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、甲苯、四氢呋喃或乙腈中的1种或2种以上的组合；

优选地，氧化反应所用催化剂为Pd(dppf)₂Cl₂、Pd(PPh₃)₄、Pd(PPh₃)₂Cl₂或RuCl₃中的1种或2种以上的组合；

优选地，氧化反应的温度为40±10℃，时间为12小时以上，优选为24小时。

5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中合成法所用溶剂为水、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、四氢呋喃或乙腈中的1种或2种以上的组合；

优选地，合成法所用催化剂为Pd(dppf)₂Cl₂、Pd(PPh₃)₄、Pd(PPh₃)₂Cl₂或RuCl₃中的1种或2种以上的组合；

优选地，合成法的温度为120±20℃，时间为1小时以上，优选为3小时；

优选地，合成法在惰性气体下进行。

6.根据权利要求3-5任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)和步骤(4)中中反应所用溶剂为水、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、四氢呋喃或乙腈中的1种或2种以上的组合；

优选地，反应所用催化剂为Pd(dppf)₂Cl₂、Pd(PPh₃)₄、Pd(PPh₃)₂Cl₂或RuCl₃中的1种或2种以上的组合；

优选地，反应在惰性气体下进行；

优选地，步骤(3)和(4)中反应的温度为80±20℃，时间为24小时以上，优选为48小时。

7.一种权利要求1或2所述的芘并咪唑衍生物在有机电致发光器件中的应用。