[发明专利]在由载具支撑的基板上沉积一层或多层的系统及方法

权利要求书

1.一种用于在由载具支撑的基板上沉积一层或多层的系统，所述系统包括：

第一装载锁定腔室；

第一传递腔室和第二传递腔室，用于传送所述基板；

包括两个或更多个沉积设备的直列式沉积系统部分，所述两个或更多个沉积设备设置在所述第一传递腔室与所述第二传递腔室之间，并且所述直列式沉积系统部分适用于将载具从一个沉积设备传送到相邻的沉积设备，其中所述沉积设备包括可移动且可转动的蒸发源；以及

第二装载锁定腔室。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一传递腔室和所述第二传递腔室配置成用于竖直的基板传送。

3.如权利要求1至2中的任一项所述的系统，其特征在于，所述第一装载锁定腔室配置成用于水平的基板搬运，且其中设置在所述第一装载锁定腔室与所述第一传递腔室之间的真空摆动模块配置成用于基板旋转，和/或其中所述第二装载锁定腔室配置成用于水平的基板搬运且设置在所述第二传递腔室与所述第二装载锁定腔室之间的第二真空摆动模块配置成用于基板旋转。

4.如权利要求1至2中的任一项所述的系统，其特征在于，所述第一传递腔室和所述第二传递腔室布置成提供至少两个线性基板传送路径。

5.如权利要求1至2中的任一项所述的系统，进一步包括选自下列各项构成的组的腔室中的一者或多者：预处理腔室、层检查腔室、掩模架腔室以及载具缓冲区腔室。

6.如权利要求3所述的系统，进一步包括：从所述第二真空摆动模块到所述第一真空摆动模块的载具返回轨道，其中所述载具返回轨道配置成在真空条件下传送所述载具。

7.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述两个或更多个沉积设备包括：

处理真空腔室；

用于有机材料的蒸发源，其中所述蒸发源包括：

蒸发坩锅；以及

具有一个或多个出口的分布管，其中所述分布管与所述蒸发坩锅流体地连通，且其中所述分布管在蒸发期间可绕轴旋转。

8.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述两个或更多个沉积设备包括：

基板支撑件系统，设置在所述处理真空室中且具有至少两个轨道，所述至少两个轨道配置成用于在所述真空处理腔室中基本上竖直地支撑所述基板或运载所述基板的载具。

9.如权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述两个或更多个沉积设备包括：

用于所述分布管的支撑件，其中所述支撑件可连接至第一驱动器或包含所述第一驱动器，其中所述第一驱动器配置成用于所述支撑件和所述分布管的平移运动，其中所述蒸发源在所述真空处理腔室中蒸发所述有机材料。

10.如权利要求7或8所述的系统，其特征在于，所述分布管通过第二驱动器可绕所述轴旋转，所述第二驱动器相对于所述支撑件旋转所述分布管，并且特别地，所述第二驱动器还相对于所述支撑件旋转所述蒸发坩锅。

11.如权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述沉积设备具有设置在轨道或线性引导件上的蒸发源，所述轨道或线性引导件配置成用于所述蒸发源的平移运动。

12.如权利要求1或2所述的系统，其特征在于，从所述第一传递腔室到所述第二传递腔室的双轨道传送系统设置成传送基板通过所述两个或更多个沉积设备。

13.一种在系统中在由载具支撑的基板上沉积一层或多层的方法，所述系统特别是根据权利要求1至12中的任一项所述的系统，所述方法包括以下步骤：

将所述基板装载在所述系统中；

将所述基板装载到所述载具上；

将带有被装载的基板的所述载具通过所述系统从直列式沉积系统部分的一个沉积设备传递到相邻的沉积设备，所述直列式沉积系统部分包括两个或更多个沉积设备，其中所述沉积设备包括可移动且可转动的蒸发源；以及

从所述载具卸载所述基板。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，在其中包含有机材料的层沉积在所述基板上。

15.如权利要求13或14所述的方法，其特征在于，在所述基板上沉积所述有机材料期间保持所述基板静止。