[发明专利]一种耐辐照涂层制备方法

权利要求书

1.一种耐辐照涂层制备方法，其特征在于，包括：

采用考夫曼气体离子源对基材表面进行表面清洗、活化，提高涂层表面结合力；

采用金属真空蒸汽离子源(MEVVA)注入方法，在核反应堆防护材料表面注入合金金属元素，形成金属″钉扎层″，注入合金金属元素为四元合金靶材，TiMoCuNi，靶材成分20-80％的Ti，10-30％的Mo，20-50％的Cu，20-40％的Ni；其注入电压为4～12kV，束流强度为1～10mA，注入剂量为1×10¹⁵～1×10¹⁷/cm²，注入深度为70～120nm；

采用磁过滤沉积技术(FCVA)沉积第一层合金金属过渡层；

同时采用金属真空蒸汽离子源(MEVVA)和磁过滤沉积技术(FCVA)，并在真空室内通入反应气体乙炔和氮气沉积第二层多相镶嵌的合金/氮化物/碳化物碳基涂层。

2.根据权利要求1所述的耐辐照涂层制备方法，其特征在于：

(a)在沉积所述第一层合金过渡层时，采用的靶材为TiMoCuNi合金靶材，靶材成分20-80％的Ti，10-30％的Mo，20-50％的Cu，20-40％的Ni，起弧电流90-120A，弯管磁场2.0～4.0A，束流200～800mA，顺序采用负压-800V、-600V、-400V、及-300V进行沉积占空比为50-100％；

(b)在沉积多相镶嵌的合金/氮化物/碳化物碳基涂层，采用的靶材为TiMoCuNi四元合金靶材，靶材成分20-80％的Ti，10-30％的Mo，20-50％的Cu，20-40％的Ni，起弧电流90～120A，弯管磁场5.0～8.0A，负压-800～6000V，沉积时间10～120min，占空比为0.01～1％，乙炔进气量为50～100sccm，氮气进气量为10-30sccm，膜层总厚度1-50μm，膜层硬度为2500HV。