[发明专利]像素界定层及其制造方法、显示基板、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及一种像素界定层及其制造方法、显示基板、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)显示面板是由玻璃基板上依次形成阳极、空穴注入层、空穴传输层、有机材料膜层、电子传输层、电子注入层和阴极等制作完成。其中，有机材料膜层可以使用喷墨打印技术制造而成。在使用喷墨打印技术制造有机材料膜层时，需要先在玻璃基板上形成像素界定层，然后将有机发光材料的溶液喷墨到形成有像素界定层的玻璃基板上，以形成有机材料膜层。

相关技术中，像素界定层由含氟树脂材料制成，并在制造过程中对该含氟树脂材料进行烘烤处理，在该处理过程中，含氟树脂材料中的含氟成分上移至像素界定层的上部，形成具有一定厚度的含氟层，该含氟层具有较好的疏液性，含氟层以下的像素界定层的下部具有较好的亲液性。喷墨打印时，亲液性的像素界定层下部对溶解有有机发光材料的溶液有吸引作用，使像素区域内形成厚度均一的有机材料膜层，疏液性的像素界定层上部对溶解有有机发光材料的溶液有排斥作用，以避免溶液被喷墨到相邻像素区域中。

但是，含氟成分只上移至像素界定层的上部，没有或者很少上移到像素界定层的侧表面，因此，喷墨时溶液在该侧表面上会有一定程度的攀爬，从而影响溶液在像素区域内的成膜均一性。

发明内容

为了解决相关技术中有机发光材料的溶液在像素界定层斜面上的攀爬影响溶液在像素区域内的成膜均一性的问题，本发明实施例提供了一种像素界定层及其制造方法、显示基板、显示装置。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种像素界定层的制造方法，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层；

去除覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，使所述亲液层的侧表面裸露；

其中，所述亲液层对溶解有有机电致发光材料的溶液具有吸引性，所述疏液层对溶解有有机电致发光材料的溶液具有排斥性。

可选地，所述疏液层包括所述表面覆盖层，

所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上形成亲液材料层；

对所述亲液材料层裸露的表层进行疏液处理，得到所述亲液层和覆盖所述亲液层上表面和侧表面的疏液层。

可选地，所述对所述亲液材料层裸露的表层进行疏液处理，包括：

在所述亲液材料层裸露的表层上形成反应涂层，使所述反应涂层与所述亲液材料层反应，以得到所述疏液层。

可选地，所述疏液层包括所述表面覆盖层，

所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上依次形成第一亲液材料层和覆盖所述第一亲液材料层上表面和侧表面的第二亲液材料层，所述第一亲液材料层和所述第二亲液材料层的材料不同；

在所述第二亲液材料层裸露的表层形成用于与所述第二亲液材料层反应的反应涂层，使所述反应涂层与所述第二亲液材料层的表层反应；

其中，所述第一亲液材料层和未与所述反应涂层反应的所述第二亲液材料层的底层构成所述亲液层，与所述反应涂层反应后的所述第二亲液材料层的表层为所述疏液层。

可选地，所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上依次形成第一亲液材料层和覆盖所述第一亲液材料层上表面的第二亲液材料层，所述第一亲液材料层和所述第二亲液材料层的材料不同；

在所述第一亲液材料层的侧表面形成所述表面覆盖层；

在所述第二亲液材料层裸露的表层形成用于与所述第二亲液材料层反应的反应涂层，使所述反应涂层与所述第二亲液材料层的表层反应；

其中，所述第一亲液材料层和未与所述反应涂层反应的所述第二亲液材料层的底层构成所述亲液层，与所述反应涂层反应后的所述第二亲液材料层的表层为所述疏液层。

可选地，所述第二亲液材料层由二氧化硅制成，所述反应涂层由氟化氢制成。

可选地，所述第二亲液材料层的厚度为0.1至0.5微米。

可选地，所述第一亲液材料层由聚酰亚胺制成。

可选地，所述裸露的侧表面的高度为0.5微米。