[发明专利]像素界定层及其制造方法、显示基板、显示装置

权利要求书

1.一种像素界定层的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层；

去除覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，使所述亲液层的侧表面裸露；

其中，所述亲液层对溶解有有机电致发光材料的溶液具有吸引性，所述疏液层对溶解有有机电致发光材料的溶液具有排斥性。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述疏液层包括所述表面覆盖层，

所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上形成亲液材料层；

对所述亲液材料层裸露的表层进行疏液处理，得到所述亲液层和覆盖所述亲液层上表面和侧表面的疏液层。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述亲液材料层裸露的表层进行疏液处理，包括：

在所述亲液材料层裸露的表层上形成反应涂层，使所述反应涂层与所述亲液材料层反应，以得到所述疏液层。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述疏液层包括所述表面覆盖层，

所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上依次形成第一亲液材料层和覆盖所述第一亲液材料层上表面和侧表面的第二亲液材料层，所述第一亲液材料层和所述第二亲液材料层的材料不同；

在所述第二亲液材料层裸露的表层形成用于与所述第二亲液材料层反应的反应涂层，使所述反应涂层与所述第二亲液材料层的表层反应；

其中，所述第一亲液材料层和未与所述反应涂层反应的所述第二亲液材料层的底层构成所述亲液层，与所述反应涂层反应后的所述第二亲液材料层的表层为所述疏液层。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上依次形成第一亲液材料层和覆盖所述第一亲液材料层上表面的第二亲液材料层，所述第一亲液材料层和所述第二亲液材料层的材料不同；

在所述第一亲液材料层的侧表面形成所述表面覆盖层；

在所述第二亲液材料层裸露的表层形成用于与所述第二亲液材料层反应的反应涂层，使所述反应涂层与所述第二亲液材料层的表层反应；

其中，所述第一亲液材料层和未与所述反应涂层反应的所述第二亲液材料层的底层构成所述亲液层，与所述反应涂层反应后的所述第二亲液材料层的表层为所述疏液层。

6.根据权利要求4或5所述的方法，其特征在于，所述第二亲液材料层由二氧化硅制成，所述反应涂层由氟化氢制成。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第二亲液材料层的厚度为0.1至0.5微米。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一亲液材料层由聚酰亚胺制成。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述裸露的侧表面的高度为0.5微米。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

在所述衬底基板上形成亲液材料层；

在所述亲液材料层的侧表面的下半部分设置所述表面覆盖层；

对所述亲液材料层裸露的表层进行表面疏液处理，使得所述亲液材料层裸露的表层形成所述疏液层，所述亲液材料层未裸露的底层形成所述亲液层，以在所述衬底基板上形成亲液层、覆盖所述亲液层的上表面的疏液层和覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，

所述去除覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层，包括：

剥离覆盖所述亲液层的侧表面的表面覆盖层；

或者，通过刻蚀工艺去除所述亲液层的侧表面的表面覆盖层。

12.一种像素界定层，其特征在于，所述像素界定层由权利要求1至11任一所述的方法制成。