[发明专利]一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺

说明书

本发明涉及一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，所述制作工艺包括如下步骤：（1）预处理；（2）电沉积硫酸铜；（3）电沉积氟硼酸盐铜；（4）化学刻蚀；（5）后处理。本发明的优点在于：本发明制作工艺结合电化学沉积和化学刻蚀，通过定向调节电化学沉积参数控制金属金相结构和晶体大小，进一步通过合适的化学刻蚀技术剥离表面金属，裸露出金相结构，得到类似自组织微纳表面结构；此结构具有在一定范围里随机的颗粒直径分布和表面高度发布，具有很好的漫反射光学效果；该制作工艺制得的具有表面光学扩散微结构模具辊，通过紫外成形技术制造的光学扩散膜在取得可调节的扩散性能的同时，又不会降低入射光的透过率。

技术领域

本发明属于微纳结构和光学膜的制作技术领域，特别涉及一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺。

背景技术

光学薄膜一般是指在光学级薄膜基材上通过真空镀膜技术、涂布技术等各种工艺制作一层或多层介质以改变光的波导特性。具有光学扩散效果的光学薄膜广泛用于平板显示器背光模组中。

常见的技术是利用各种具有光学扩散效果的颗粒或者片状物涂布或者夹持在膜表面或者中间。如专利CN 100381836 C公开了一种扩散膜，其包含一基材，且至少有一基材表面包含含表面官能基的光学扩散微粒、接合剂和硬化剂的涂层，其中该光学扩散微粒是由多元醇聚合物所组成，且具有1～50μm的粒径，该接合剂是选自由丙烯酸树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂及聚酯树脂所组成的群组；专利CN 104797962 A公开了光扩散膜，其是用于使入射光光扩散成椭圆形的光扩散膜，其中，在膜内具有将折射率相对较高的多个薄片状物沿着沿膜面的任一方向在折射率相对较低的区域中排列多列而成的结构。

但是，上述两种结构的扩散膜存在一定的缺点：由于起扩散作用的颗粒或多或少对入射光的吸收和阻挡作用，进而会降低光线透过率。

发明内容

本发明提供一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，该制作工艺制得的具有表面光学扩散微结构模具辊，通过紫外成形技术制造的光学扩散膜在取得可调节的扩散性能的同时，又不会降低入射光的透过率。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案为：一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺，其创新点在于：所述制作工艺包括如下步骤：

(1)预处理：对成型的辊坯依次进行表面除油和快速镀铜处理，得到一次预备辊；

(2)电沉积硫酸铜：将步骤(1)得到的一次预备辊进行硫酸铜电沉积处理，以含磷铜板为阳极，浓度为220～250g/L CuS0₄·5H₂O、60～70g/L H₂S0₄和0.5～1.5mL/L十二烷基硫酸钠的混合液为电沉积液，设置阴极电流密度为3～10A/dm²，溶液温度为20～40℃，实施电沉积硫酸铜，且电沉积硫酸铜在搅拌过程中进行，沉积出一层厚度为50～100μm的金相结构，得到二次预备辊；

(3)电沉积氟硼酸盐铜：将步骤(2)得到的二次预备辊进行氟硼酸盐铜电沉积处理，以浓度为440～450g/L Cu(BF₄)₂、20～30g/L H₃B0₃和0.5～1.5mL/L pH值添加剂的混合液为电沉积液，设置阴极电流密度为10～45A/dm²，溶液温度为20～40℃，实施电沉积氟硼酸盐铜，且电沉积氟硼酸盐铜在搅拌过程中进行，形成一层细密的厚度为50～100μm的金相颗粒填充，得到三次预备辊；

(4)化学刻蚀：将步骤(3)得到的三次预备辊进行化学刻蚀，剥离表面金属层；即采用浓度为500～800mL/L的氨水和200～500mL/L的双氧水的混合液进行刻蚀处理30～60s，处理后过5％稀磷酸溶液，并用纯水彻底冲洗，使金相结构裸露，得到四次预备辊；