[发明专利]一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺有效
申请号: | 201710325813.1 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN107287628B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 邱晓华;王新辉 | 申请(专利权)人: | 南通天鸿镭射科技有限公司 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D5/10;C23F1/18;C25F3/22;G02B5/02 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 226500 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 表面 光学 扩散 微结构 模具 制作 工艺 | ||
1.一种具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺,其特征在于:所述制作工艺包括如下步骤:
(1)预处理:对成型的辊坯依次进行表面除油和快速镀铜处理,得到一次预备辊;
(2)电沉积硫酸铜:将步骤(1)得到的一次预备辊进行硫酸铜电沉积处理,以含磷铜板为阳极,浓度为220~250g/L CuS04·5H2O、60~70g/L H2S04和0.5~1.5mL/L十二烷基硫酸钠的混合液为电沉积液,设置阴极电流密度为3~10A/dm2,溶液温度为20~40℃,实施电沉积硫酸铜,且电沉积硫酸铜在搅拌过程中进行,沉积出一层厚度为50~100µm的金相结构,得到二次预备辊;
(3)电沉积氟硼酸盐铜:将步骤(2)得到的二次预备辊进行氟硼酸盐铜电沉积处理,以浓度为440~450g/L Cu(BF4)2、20~30g/L H3B03和0.5~1.5mL/L pH值添加剂的混合液为电沉积液,设置阴极电流密度为10~45A/dm2,溶液温度为20~40℃,实施电沉积氟硼酸盐铜,且电沉积氟硼酸盐铜在搅拌过程中进行,形成一层细密的厚度为50~100µm的金相颗粒填充,得到三次预备辊;
(4)化学刻蚀:将步骤(3)得到的三次预备辊进行化学刻蚀,剥离表面金属层;即采用浓度为500~800mL/L的氨水和200~500mL/L的双氧水的混合液进行刻蚀处理30~60s,处理后过5%稀磷酸溶液,并用纯水彻底冲洗,使金相结构裸露,得到四次预备辊;
(5)后处理:将步骤(4)的四次预备辊依次经过电解抛光和抗氧化处理,得到具有表面光学扩散微结构的成形辊;所述步骤(1)中的快速镀铜处理的具体步骤为以电解铜板为阳极,浓度为8~30g/L 氰化亚铜、12~54g/L 氰化钠和2~10g/L 氢氧化钠的混合液为镀铜液,设置阴极电流密度为0.2~2.2A/dm2,溶液温度为20~45℃,实施快速镀铜1~10min;所述步骤(5)中的电解抛光的具体步骤为采用可控硅整流器进行铜电解抛光,以铅板为阴极,铜模具辊为阳极,阴极和阳极面积的比为2~3:1,且阴阳极距离为200mm,以浓度为600~900mL/L工业磷酸、0.05~0.2 g/L十二烷基硫酸钠和0.05~1 g/L聚乙二醇的混合液为抛光电解液,并控制整流器工作电压6~10v,电流密度2.5~3.5 A/dm2常温操作1~10min;所述步骤(5)中的抗氧化处理的具体步骤为:1)将电解抛光处理后的模具辊浸没于森源PV-D04铜钝化液中,处理12~15min;2)过纯水;3)纯水浸泡处理,浸泡时间为3~5min;4)除水,烘干。
2.根据权利要求1所述的具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺,其特征在于:所述步骤(1)中的表面除油是酸洗除油或皂化除油。
3.根据权利要求2所述的具有表面光学扩散微结构模具辊的制作工艺,其特征在于:所述酸洗除油的具体步骤为在40~60℃的条件下,以百分质量比浓度为5~30%的H3P04溶液进行除油处理1~5min。
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