[发明专利]一种真空吸纹皮革及其制备方法

权利要求书

1.一种真空吸纹皮革，其特征在于，所述真空吸纹皮革包括基布层和设置在所述基布层上的皮革面层；

所述基布层由含有聚乙烯醇的基布构成；

所述皮革面层按质量份数计，包括如下原料组分：

所述丙烯酸树脂的酸值为5-15mgKOH/g；

所述发泡剂选自偶氮二甲酰胺、碳酸铵或硝酸铵中的一种或至少两种的组合；

真空吸纹皮革的制备方法包括如下步骤：

(1)将基布浸渍于质量浓度为5-10％的聚乙烯醇溶液中，然后辊轧，烘干，得到基布层；

(2)将配方量的皮革面层的原料组分通过挤出机挤出并流延，得到皮革面层；

(3)将所述基布层和所述皮革面层进行加压热合，然后熟化，得到聚氨酯合成革；

(4)将所述聚氨酯合成革在真空吸纹机中吸纹，得到所述真空吸纹皮革。

2.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述基布为针织起毛布﹑平织起毛布﹑弹力布、无纺布、涤纶布、尼龙布或超纤布。

3.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述基布层的厚度为0.05-10mm。

4.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层的厚度为0.01-0.2mm。

5.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层按质量份数计，包括如下原料组分：

6.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层按质量份数计，还包括0.1-20份爽滑剂。

7.根据权利要求6所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述爽滑剂选自硬脂酰胺、芥酰胺、甘油三硬脂酸酯或聚氧化丙烯三醇中的一种或至少两种的组合。

8.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层按质量份数计，还包括0.1-3份抗氧剂。

9.根据权利要求8所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述抗氧剂选自四[甲基-β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]季戊四醇酯、三(2,4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯、4,4'-硫代双(6-叔丁基-3-甲基苯酚)或β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸正十八碳醇酯中的一种或至少两种的组合。

10.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层按质量份数计，还包括0.1-5份光稳定剂。

11.根据权利要求10所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述光稳定剂选自受阻胺类光稳定剂、三嗪类光稳定剂或苯并三唑类光稳定剂中的一种或至少两种的组合。

12.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述皮革面层按质量份数计，还包括0.1-30份色母粒。

13.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述填料选自高岭土、木质粉、滑石粉或碳酸钙中的一种或至少两种的组合。

14.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述填料的粒度为800-1500目。

15.根据权利要求1所述的真空吸纹皮革，其特征在于，所述交联剂选自碳化二亚胺、多异氰酸酯或环氧基硅烷中的一种或至少两种的组合。