[发明专利]阻变存储器的存储状态的调控方法有效
申请号: | 201710264856.3 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN107134525B | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 龙世兵;李磊磊;滕蛟;刘琦;吕杭炳;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 韩建伟;谢湘宁 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储器 存储 状态 调控 方法 | ||
1.一种阻变存储器的存储状态的调控方法,其特征在于,所述阻变存储器包括两个电极层与所述两个电极层之间的绝缘层(2),两个所述电极层分别是第一电极层(1)与第二电极层(3),其中,至少一个所述电极层为铁磁电极层,所述存储状态的调控方法包括:
步骤S1,向两个所述电极层之间施加第一电压,使得至少一个所述铁磁电极层的电势高于另一个所述电极层的电势;以及
步骤S2,向两个所述电极层之间施加第二电压,使得一个所述铁磁电极层中的铁磁材料发生相变。
2.根据权利要求1所述的调控方法,其特征在于,所述第一电极层(1)为所述铁磁电极层,所述第二电极层(3)为非铁磁电极层,在所述步骤S1中,向所述第一电极层(1)施加正向扫描电压,将所述第二电极层(3)接地。
3.根据权利要求1所述的调控方法,其特征在于,所述第一电极层(1)与所述第二电极层(3)均为所述铁磁电极层,在所述步骤S1中,向其中一个所述电极层施加正向扫描电压,将另一个所述电极层接地。
4.根据权利要求1所述的调控方法,其特征在于,所述第一电极层(1)为所述铁磁电极层,所述第二电极层(3)为非铁磁电极层,在所述步骤S2中,向所述第一电极层(1)施加正向扫描电压,将所述第二电极层(3)接地。
5.根据权利要求1所述的调控方法,其特征在于,所述第一电极层(1)与所述第二电极层(3)均为所述铁磁电极层,在所述步骤S2中,向其中一个所述电极层施加正向扫描电压,将另一个所述电极层接地。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的调控方法,其特征在于,所述铁磁电极层的材料选自Fe、Co与Ni中的一种或多种。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的调控方法,其特征在于,所述绝缘层的材料选自TiO2、TaOX、HfO2、NiO与ZrO2中的一种或多种。
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