[发明专利]一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置

说明书

本发明公开了一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，所述镀制装置包括等离子有机活化装置，所述等离子有机活化装置包括：用于接入离化气体的第一进气口、用于接入小分子有机气液混合分子的第二进气口、等离子发生装置和喷嘴；所述等离子发生装置包括反应放电室和设置在所述反应放电室内的等离子源，且所述反应放电室上设置有等离子体喷射口；所述第一进气口与所述反应放电室连通；所述第二进气口与所述喷嘴连通，且所述喷嘴朝向所述等离子体喷射口布置。上述镀制装置，通过所述等离子有机活化装置形成的有机加硬镀膜的厚度较薄，大大节省了有机液镀膜的原料浪费，同时形成的有机加硬镀膜几乎立刻固化，避免了因重力流动产生的均匀性差的问题。

技术领域

本发明涉及塑料的表面硬化处理技术领域，尤其涉及一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置。

背景技术

现实的透明有机聚合物材料的表面硬度极低，一般在铅笔硬度1H以下，很容易划伤，经过表面改性，表面的铅笔硬度能达到2H-3H，已经是很优异的性能。有机聚合物在使用过程中产生的划痕和磨损很大程度上影响了其的应用领域的推广。

为改善高分子聚合物的表面硬度，提高耐磨损性能，目前通用的手段有：在该透明高分子聚合物上涂覆一层加硬有机透明涂料；在透明高分子聚合物上用真空镀膜的方式沉积一层无机透明氧化物。

针对第一种方式，有机加硬涂料无论是采用喷涂工艺还是浸涂工艺，若要形成连续膜层具有加硬性能，均需要使用大量的涂料；同时液体膜还要经过热固化或者光固化，都会消耗大量的材料和能源。同时形成的镀膜的厚度一般在几百微米左右，进而由于液体膜受到表面张力和重力的影响，会由膜层厚度不均匀形成不平整的表面，表现为不同程度的花纹，严重影响表面的性能。

另一种传统的硬膜镀膜方式是采用物理气相沉积PVD真空镀膜方式，比如蒸发镀或溅射镀TiO2、SiO2、Si3N4、Al2O3等无机陶瓷膜(透明氧化物或氮化物材料)，直接将保护材料镀在产品表面。由于是无机与有机之间形成的结合，镀层与基材的结合性能不够牢固，同时膜层的致密性也不够好。在长久的苛刻环境中使用，会出现一定的脱层现象。采用该种方式加硬的有机塑料，在耐磨性上有一定程度提高，但是实测的铅笔硬度并未有太大改善。

综上所述，如何解决有机液体镀膜的原料浪费和均匀性差的问题，已成为本领域技术人员亟待解决的技术难题。

发明内容

本发明的目的是提供一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，以避免有机液镀膜的原料浪费和均匀性差的问题。

为了实现上述目的，本发明提供了一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，所述镀制装置包括等离子有机活化装置，所述等离子有机活化装置包括：用于接入离化气体的第一进气口、用于接入小分子有机气液混合分子的第二进气口、等离子发生装置和喷嘴；

所述等离子发生装置包括反应放电室和设置在所述反应放电室内的等离子源，且所述反应放电室上设置有等离子体喷射口；

所述第一进气口与所述反应放电室连通；

所述第二进气口与所述喷嘴连通，且所述喷嘴朝向所述等离子体喷射口布置。

优选地，所述第二进气口和所述喷嘴之间还设置有均匀布气管路。

优选地，所述均匀布气管路包括一个流入口和多个二元分支的流出口，所述流入口与所述第二进气口连通，所述流出口与所述喷嘴连通。

优选地，所述等离子有机活化装置，还包括用于冷却所述等离子发生装置的冷却装置。

优选地，所述冷却装置包括紧挨所述等离子发生装置布置的冷却箱，所述冷却箱上设置有冷却介质的流入端和流出端。