[发明专利]一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置

权利要求书

1.一种塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述镀制装置包括等离子有机活化装置(1)，所述等离子有机活化装置(1)包括：用于接入离化气体的第一进气口(2)、用于接入小分子有机气液混合分子的第二进气口(3)、等离子发生装置(4)和喷嘴(5)；

所述等离子发生装置(4)包括反应放电室(6)和设置在所述反应放电室(6)内的等离子源，且所述反应放电室(6)上设置有等离子体喷射口(7)；

所述第一进气口(2)与所述反应放电室(6)连通；

所述第二进气口(3)与所述喷嘴(5)连通，且所述喷嘴(5)朝向所述等离子体喷射口(7)布置。

2.如权利要求1所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述第二进气口(3)和所述喷嘴(5)之间还设置有均匀布气管路(8)。

3.如权利要求2所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述均匀布气管路(8)包括一个流入口和多个二元分支的流出口，所述流入口与所述第二进气口(3)连通，所述流出口与所述喷嘴(5)连通。

4.如权利要求1所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述等离子有机活化装置(1)，还包括用于冷却所述等离子发生装置(4)的冷却装置(9)。

5.如权利要求4所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述冷却装置(9)包括紧挨所述等离子发生装置(4)布置的冷却箱，所述冷却箱上设置有冷却介质的流入端(10)和流出端(11)。

6.如权利要求1所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述等离子源为矩形线性离子源，

所述矩形线性离子源包括阴极顶板(12)、阴极外框(13)和阳极环(14)，所述阴极顶板(12)和所述阴极外框(13)之间的间隙构成所述等离子体喷射口(7)，所述阳极环(14)设置在所述反应放电室(6)内且对应所述等离子体喷射口(7)的位置。

7.如权利要求6所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述反应放电室(6)内还设置有中央磁钢(15)和外围磁钢(16)，所述中央磁钢(15)设置在所述阳极环(14)的内环，所述外围磁钢(16)靠近所述反应放电室(6)的周向内壁布置，且所述中央磁钢(15)和所述外围磁钢(16)的极性相反。

8.如权利要求1所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述镀制装置还包括气液连供系统，所述气液连供系统包括第一管路(17)和第二管路(18)；

所述第一管路(17)的一端与所述第一进气口(2)连通，所述第一管路(17)的另一端与气源连通；

所述第二管路(18)的一端与所述第二进气口(3)连通，所述第二管路(18)的另一端与气源连通，且所述第二管路(18)上设置有小分子有机气液混合分子发生装置；

所述小分子有机气液混合分子发生装置包括液体容器(19)、设置在所述液体容器(19)内的储液罐(20)和设置在所述储液罐(20)内的有机液的液面下方的超声雾化装置(21)。

9.如权利要求1所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述镀制装置还包括用于放置待镀制的塑料样件(22)的真空室(23)，所述等离子有机活化装置(1)设置在所述真空室(23)内。

10.如权利要求9所述的塑料的有机加硬镀膜的镀制装置，其特征在于，所述真空室(23)内还设置有用于给所述待镀制的塑料样件(22)加热的加热装置(24)。