[发明专利]一种化学湿法减薄黑磷的方法及其应用有效
申请号: | 201710156072.9 | 申请日: | 2017-03-17 |
公开(公告)号: | CN108622866B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 刘晶;范双青 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C01B25/02 | 分类号: | C01B25/02;C09K13/00;H01L29/267;H01L21/336 |
代理公司: | 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 | 代理人: | 王秀奎 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 湿法 黑磷 方法 及其 应用 | ||
本发明提供一种化学湿法减薄黑磷的方法及其应用,包括以下步骤将片状黑磷浸入减薄溶液中于室温20‑25℃浸泡,所述减薄溶液的溶质为摩尔比为(1‑50):(1‑50)的2,2,6,6‑四甲基哌啶氧化物和三苯基四氟硼酸碳,溶剂为二氯甲烷溶液,浸泡5min‑7h后,取出样品、洗涤干燥。本发明的有益效果是:使黑磷材料减薄,得到干净、完整的晶体表面,还可以起到平整黑磷材料的作用,操作步骤简单,无苛刻条件,可实现产业化。
技术领域
本发明属于光电技术领域,尤其是涉及一种化学湿法减薄黑磷的方法及其应用。
背景技术
二维材料,例如石墨烯,黑磷,过渡金属硫化物,由于其特殊性质和在纳米电子中的潜在应用受到极大的关注。其中,石墨烯,二硫化钼,黑磷作为代表性的二维材料已经在柔性电子,光电探测器,电催化,气体传感等应用领域被广泛研究。二维材料的性质与应用起到了很大程度上取决于二维材料的厚度。
例如随着黑磷的减薄,其带隙从0.3eV增大到2.0eV。其载流子迁移率也和厚度有关。目前可以用等离子体或者原子力显微镜减薄,但是需要价格昂贵的大型仪器,成本很高,减薄速率不易控制,操作复杂,尤其是不能用于溶液中大规模减薄黑磷,原子力显微镜减薄速率就更低了,不适用于产业化。尽管二维材料领域发展迅速,但是制备高效、高质量、厚度可控的二维材料仍然是一个重大挑战。因此,在已知黑磷具有广阔应用前景的基础下,亟待开发一种大规模减薄黑磷来制备薄层甚至单层黑磷的方法
发明内容
为了克服以上减薄黑磷方法的弊端,本发明的目的在于:提供一种操作简单、应用广泛的通过化学湿法刻蚀来制备薄层或单层黑磷的方法。
本发明的技术方案是:本发明的一种化学湿法减薄黑磷的方法,包括以下步骤:
将片状黑磷浸入减薄溶液中于室温20-25℃浸泡,所述减薄溶液的溶质为摩尔比为(1-50):(1-50)的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和三苯基四氟硼酸碳,溶剂为二氯甲烷溶液,浸泡5min-7h后,取出样品、洗涤干燥。
优选的,所述片状黑磷由块状黑磷通过机械剥离或超声、机械搅拌的方式分解而成。
优选的,所述浸泡时间为30-100min。
优选的,所述洗涤溶剂为二氯甲烷或异丙醇。
优选的,所述干燥作业采用氮气枪吹扫完成。
优选的,所述减薄溶液为等摩尔比的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和三苯基四氟硼酸碳的二氯甲烷溶液。
优选的,所述减薄溶液的溶质为10mmol的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和10mmol的三苯基四氟硼酸碳,所述减薄溶液的溶剂为2mL二氯甲烷。
本发明的另一方面,还包括化学湿法减薄黑磷的方法在制备晶体管上的应用,所述晶体管的开关比为106,亚阈值摆幅为450mV/decade,源漏电压差在-40mV-40mV范围内,源漏电流随源漏电压成线性变化,且高度对称。
本发明的另一方面,还包括一种减薄溶液在减薄黑磷上的应用,所述减薄溶液的溶质为摩尔比为(1-50):(1-50)的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和三苯基四氟硼酸碳,溶剂为二氯甲烷溶液。
优选的,减薄溶液的溶质为等摩尔比的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和三苯基四氟硼酸碳。
优选的,所述减薄溶液的溶质为10mmol的2,2,6,6-四甲基哌啶氧化物和10mmol的三苯基四氟硼酸碳,所述减薄溶液的溶剂为2mL二氯甲烷。
本发明具有的优点和积极效果是:
1、本发明除了使黑磷材料减薄,得到干净、完整的晶体表面,还可以起到平整黑磷材料的作用,从而可能实现产业化。
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