[发明专利]一种背照式宽动态范围CMOS图像传感器的制作方法在审
申请号: | 201710149265.1 | 申请日: | 2017-03-14 |
公开(公告)号: | CN108573986A | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 董长春;其他发明人请求不公开姓名 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工大华生电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150000 黑龙江省哈尔滨市松北*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背面 单元结构 背照式 源像素 串扰 减小 制作 动态范围图像 图像传感器 曝光模式 深槽隔离 像素单元 电光学 宽动态 电学 传感器 势阱 填满 像素 照光 离子 并行 扩散 | ||
本发明涉及了CMOS图像传感器领域,尤其是涉及了一种背照式款动态范围图像传感器的制作方法。本发明通过在背面制作深槽隔离和P阱注入,减小了器件间像素单元的电光学串扰,增大了器件的满井容量,同时在背面进行离子注入减小背面照光后扩散电子引起的电学串扰。而CMOS像素单元结构采用5T有源像素结构作为单元结构,五管有源像素由于采用全并行曝光模式,像素势阱很快被填满,提高了图像传感器的动态范围。
技术领域
本发明涉及CMOS图像传感器领域,特别是涉及一种减小背照式CMOS图像传感器串扰的制作方法。
背景技术
眼睛是人的视觉图像来源,而人类通过视觉系统获得的信息量约占总获取信息量的80%以上。而图像传感器(Image Sensor)就是视频采集设备的图像接受装置,类似人类的眼睛。图像传感器在如今电子数码产品中屡见不鲜,发挥着重要的作用。CMOS图像传感器可应用于PC终端摄像头、数码相机、手机及平板电脑监控摄像头、工业摄像机、可视门铃、汽车尾视、汽车防盗、机器视觉、安防监控等领域。在纵横交错的信息世界里,图像传感器作为图像信息采集系统的“视网膜”,因其能实现图像信息的实时采集、数字形式多层次呈现,在信息时代发挥着不可替代的作用。
半导体图像传感器包括电荷耦合器件图像传感器(Charge CoupledDevice,CCD)和互补金属氧化物半导体图像传感器(CMOS Image Sensor,CIS)。其中CMOS 图像传感器是指基于 CMOS 工艺制造的图像传感器,是将模拟光信号转化为数字电信号的器件单元。先,外界光源通过光学器件,将图像汇聚到 CMOS图像传感器感光区域像素阵列上。像素阵列将接收到的光信号转化为模拟电信号,并经过放大、去噪送到模数转换器(Analog-to-DigitalConverter, ADC)中数字化。最后,数字化的信号经过图像处理芯片运算得到一幅清晰真实的图像。
背照式(Back-Side illuminated sensor,BSI)CMOS 图像传感器的发展受到了诸多因素的限制,如因像素尺寸缩减而造成的满阱容量的过小、背照式技术下严重的短波串扰等问题。这对小尺寸背照式图像传感器,尤其是像素部分的设计提出了更苛刻的要求。因此,改善小尺寸像素的满阱容量与BSI 像素的电学串扰是本发明需要解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种减小背照式CMOS图像传感器串扰的制作方法。本发明的特点是通过改进传统光电二极管PPD结构来实现满阱容量(FWC)扩展的和正面浅沟槽隔离STI技术、背面沟槽隔离的BTI防串扰的方法。
本发明提供一种减小背照式CMOS图像传感器串扰的制作方法,包括:
提供了一种P型外延片,在P型外延片上制作T4型像素单元结构;
所述的半导体外延层上的每个像素单元内具有一个T5型像素单元结构;
所述的T5型像素单元结构包括光电二极管(PPD)和5个MOS管构成;
所述的四个MOS管分别指传输管 TX、复位管 RST、源极跟随器 SF、行选管SEL和信号开关选择管PR;
所述P型半导体外延层制作浅槽,所述浅槽位于相邻像素单元之间,称为正面浅沟槽隔离STI技术;
所述P半导体衬底制作深沟槽,所述深沟槽位于相邻像素单元感光面之间,称为背面沟槽隔离的BTI;
所述半导体外延层上制作T5型有源像素APS光电二极管;
进一步在半导体像素器件正面淀积绝缘层,在绝缘层内形成接触孔,为多晶硅与金属层提供电学连接;
最后在背面形成感光层,完成背照式像素结构的制作方法。
附图说明
图1为一实施例中的传统T4型有源像素APS结构;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的