[发明专利]多系统混合气体供给设备和采用该设备的基板处理装置

说明书

本发明提供多系统混合气体供给设备和采用该设备的基板处理装置。该多系统混合气体供给设备包括：分流器，其连接于共用的混合气体供给路径，将混合气体分支到多个供给系统，并且能够调整该多个供给系统的流量比率；以及喷射器，其针对处理容器内的多个区域的各个区域具有气体导入口和气体喷出孔，能够向所述多个区域的各个区域供给所述混合气体，所述分流器的所述多个供给系统的各个供给系统一对一地连接于所述处理容器内的所述多个区域各自的所述气体导入口。

技术领域

本发明涉及多系统混合气体供给设备和采用该供给设备的基板处理装置。

背景技术

以往公知有一种气相生长装置，该气相生长装置包括：基座，其用于载置被处理基板；气体供给部，其与所述基座相对，用于向被处理基板上供给多个材料气体；多个混合配管，其用于将所述多个材料气体中的规定的多个材料气体混合并分别向所述气体供给部导入；以及多个气体分支机构，其用于针对所述多个材料气体分别调整流量并分支地分别输送到所述多个混合配管中的任一个，所述气体供给部向所述基座上的多个区域分别喷上在所述多个混合配管中分别混合而成的多个混合气体，针对所述多个混合气体分别调节所述规定的多个材料气体各自的浓度和流量。

在该气相生长装置中，自各气体供给源利用气体分支机构使供给管线分支，将分支的各气体的供给管线分别连接于多个混合配管而设置多个供给同一混合气体的混合配管，与基座上的多个区域相对应地分别喷上各个混合气体。

发明内容

发明要解决的问题

但是，在该结构中存在这样的问题：与基座上的多个区域的数量相应地需要供给同一混合气体的混合配管，随之配管数量增加并复杂化，随之装置也大型化。

特别是，在上述结构中存在这样的问题：若混合配管增加，则随之也需要增加来自各气体源的分支管线数量，因此，若基座上的应供给的区域数量增加，则在气体源附近配管数量的增加显著。

并且，近年来，基板处理所采用的气体的种类存在增加倾向，而且从提升面内均匀性的方面考虑，基座上的区域的数量也存在增加倾向，配管数量的增加和装置的大型化成为问题。

本发明提供在将混合气体分支到多个系统而向处理容器内的多个区域供给时能够减少配管数量而谋求装置的小型化的多系统混合气体供给设备和采用该供给设备的基板处理装置。

用于解决问题的方案

本发明的一个技术方案的多系统混合气体供给设备用于向处理容器内的多个区域供给混合气体，其中，

该多系统混合气体供给设备包括：

分流器，其连接于共用的混合气体供给路径，将混合气体分支到多个供给系统，并且能够调整该多个供给系统的流量比率；以及

喷射器，其针对处理容器内的多个区域的各个区域具有气体导入口和气体喷出孔，能够向所述多个区域的各个区域供给所述混合气体，

所述分流器的所述多个供给系统的各个供给系统一对一地连接于所述处理容器内的所述多个区域各自的所述气体导入口。

本发明的另一个技术方案的基板处理装置包括：

所述多系统混合气体供给设备；

所述处理容器；以及

基板保持部件，其用于在所述处理容器内保持基板。

附图说明

附图作为本说明书的一部分编入而表示本申请的实施方式，与上述通常的说明和后述的实施方式的详细内容一起说明本申请的概念。

图1是表示本发明的第1实施方式的多系统混合气体供给设备和基板处理装置的一例子的图。