[发明专利]印刷基板用曝光装置

说明书

不会利用将基板吸附于基台的真空吸附力或将基板暴露于真空中、就而能够将基板的周边部向基台按压，使得对于厚度不同的基板也能够容易地对应。在基板(S)通过真空吸附机构(3)而被吸附到基台(1)时，设置在不遮挡曝光的形状的框体(61)上的一对周状封固部件(62)与基台(1)抵接，所形成的密闭空间通过框体用排气孔(13)被排气，从而框体(61)被朝向基台(1)按压。其结果，以基板(S)的周边部被按压于基台(1)、基板(S)的变形被矫正的状态，通过曝光系统(2)将基板(S)曝光。

技术领域

本申请的发明涉及印刷基板制造用的曝光装置，特别涉及具备一边纠正基板的变形一边进行曝光的功能的曝光装置。

背景技术

印刷基板搭载于便携电话或个人计算机等电子设备中。这些电子设备为了进行小型轻量化，要求提高形成在基板上的图案的集成度，电路要素和图案的微细化得到进展。

在进行图案向印刷基板的形成的光刻法中，存在对于涂敷在基板上的抗蚀剂而形成电路图案等规定的图案的曝光工序，使用了曝光装置。曝光装置为了在基板的规定的位置进行电路图案等规定的图案的转印，需要将基板相对于进行曝光的光学系统配置在正确的位置。因此，采用在相对于光学系统设置的基台(table)上的规定的位置处载置基板、并在曝光中以保持该位置的方式将基板真空吸附到基台上的机构。

专利文献

专利文献1

日本特开2009－109553号公报

专利文献2

日本特开2011－81156号公报

专利文献3

日本专利4589198号公报

发明内容

在采用了上述那样的将基板真空吸附到基台上的机构的印刷基板用曝光装置中，要求即使对于发生了翘曲或应变这样的变形的基板也正确地进行曝光。基板的翘曲或应变这样的变形因几个要因而发生。其一，可以举出为了电子设备的小型轻量化而采用非常薄的基板。由聚酰亚胺、聚酯等形成的较薄的柔性基板存在容易受到前工序中的热处理的影响、若从横向观察则弯曲或像波浪那样弯曲的情况。并且，即使是像环氧玻璃那样的刚性基板的情况，在基板为多层构造的情况下，也由于原料间的热膨胀系数的不同等而随着重复用于层叠的处理容易在基板的周边部发生翘曲或应变。

在使用曝光装置的用户的角度，期望的是，即使是如此产生变形的基板，也想要将电路图案等规定的图案曝光。

在对上述那样的变形后的基板的曝光中成为问题的是，真空吸附的错误。这是在使变形后的基板载置于基台而进行真空吸附的情况下，在变形的部位出现真空泄露，因此变得不能充分地吸附的错误。若产生吸附错误，则有在曝光中基板发生错位的情况，所以通常，装置的动作停止，曝光处理被中断。

由此，提出了几个在真空吸附时将基板按压在基台上的技术。其中，专利文献1公开了在基板被真空吸附时成为以包围基板的方式配置衬垫的状态、并利用衬垫成为密闭空间而使密闭空间内抽真空的构造。在该构造中，将基板按压在基台上的机构在曝光时被卸除，因此翘曲的弹性较强的基板有在曝光时发生真空吸附错误的情况。并且，由于基板被直接曝露在真空中，所以在基板的表面设有保护膜的情况下，也考虑其剥离或在保护膜的内侧产生气泡。

并且，专利文献2中公开了以将被真空吸附的基板的周边部覆盖的状态配置基板固定片(聚酯片)，通过基板的真空吸附时的吸引力来使该片弹性变形的技术。该构造需要按照基板的形状来设计夹紧机构，为了使其与多种基板尺寸相对应，需要在曝光基台上单独设计夹紧机构，使得成本提高。并且，基板的尺寸不同的情况下需要进行片的更换，但专利文献2 的片被机械地夹紧，因此更换不容易。

进而，可以认为由于基板被暴露在真空中，因此产生与上述相同的问题。