[发明专利]彩膜基板及制备方法和显示面板在审
申请号: | 201710116519.X | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN106647052A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 徐国华;高章飞;杜永刚;童冉 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 赵天月 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 制备 方法 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及电子领域,具体地,涉及彩膜基板及制备方法和显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展,液晶显示屏在电子设备中的应用也越来越普及。与此同时,随着显示技术的发展,各类电子设备对于显示屏的性能要求也越来越高。例如,显示屏需要具有足够宽的色域、均匀的暗态画面效果以及良好的稳定性和较高的良率,以满足电子设备的不同需求。
然而,目前的彩膜基板以及显示面板仍有待改进。
发明内容
本发明是基于发明人的以下发现而作出的:
目前的显示面板,使用寿命以及产品良率仍有待提高。使用一段时间后的显示面板,容易出现诸如漏光、色不均、Touch mura等问题,且在制备显示面板的过程中,抛光你扥工艺也容易造成诸如Polish mura等问题,进而影响显示面板的产品良率。发明人经过深入研究以及大量实验发现,这主要是由于液晶显示器的阵列基板和彩膜基板,容易在外力作用下发生相对滑移而产生的。具体的,当阵列基板和彩膜基板发生相对滑移后,彩膜基板的黑色矩阵位置也发生偏移,进而不能遮挡相应的非像素区域,造成漏光;而触控显示面板,需要使用者对显示屏进行触摸操作,触控力度控制不当时造成彩膜基板和阵列基板发生相对移动,不能及时恢复时则易产生漏光引起Touch mura。而阵列基板和彩膜基板相对滑移后,位于液晶层中的隔垫物对应阵列基板所处的位置发生变化,造成基板上不同位置出现高度的差异从而引起色不均。列基板和彩膜基板相对滑移后,隔垫物也容易在移动中划伤阵列基板侧的配向膜,导致局部配向异常,形成mura。而在制备显示面板过程中的抛光等工艺,此时如阵列基板以及彩膜基板之间固定不够紧密,也容易使阵列基板和彩膜基板在抛光的摩擦力下发生相对滑移,造成阵列基板诸如薄膜晶体管等结构被磨损产生碎屑。碎屑移动至显示区也会引起显示不良。因此,如能够在不影响阵列基板和彩膜基板各自功能的前提下,提高阵列基板和彩膜基板之间的固定程度,将大幅缓解显示面板的不良率。
本发明旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。
有鉴于此,在本发明的第一方面,本发明提出了一种彩膜基板。根据本发明的实施例,该彩膜基板包括:衬底;多个子像素,所述多个子像素设置在所述衬底上,所述多个子像素间隔设置且呈矩阵排列;多个隔垫物组件,所述隔垫物组件设置在所述多个子像素之间的间隔处,所述隔垫物组件包括第一隔垫物、第二隔垫物以及连接部,所述连接部连接所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物。由此,可以提高该彩膜基板与阵列基板对盒之后,该彩膜基板与阵列基板之间的固定程度。
根据本发明的实施例,所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物的纵截面为柱状,所述第一个隔垫物的高度,高于所述第二隔垫物的高度,所述连接部为凹形。由此,可以进一步提高阵列基板和彩膜基板之间的固定程度。
根据本发明的实施例,所述隔垫物组件包括一个所述第一隔垫物以及两个所述第二隔垫物,所述两个第二隔垫物分别设置在所述第一隔垫物的两侧。由此,可以进一步提高阵列基板和彩膜基板之间的固定程度。
根据本发明的实施例,该彩膜基板进一步包括:隔垫物组件连接部,所述隔垫物组件连接部设置在相邻的两个所述隔垫物组件之间。由此,可以进一步提高阵列基板和彩膜基板之间的固定程度。
根据本发明的实施例,所述隔垫物组件连接部分别与相邻的两个所述隔垫物组件中的所述第一隔垫物相连;或者,所述隔垫物组件连接部分别与相邻的两个所述隔垫物组件中的所述第二隔垫物相连。由此,可以进一步提高阵列基板和彩膜基板之间的固定程度。
在本发明的另一方面,本发明提出了一种制备前面所述的彩膜基板的方法。根据本发明的实施例,该方法包括:在衬底上设置多个子像素,所述多个子像素间隔设置且呈矩阵排列;以及在所述多个子像素的所述间隔处设置多个所述隔垫物组件。由此,可以简便地获得前描述的彩膜基板。
根据本发明的实施例,所述多个隔垫物组件是通过以下步骤设置的:在所述多个子像素之上形成隔垫物层,并通过掩膜曝光工艺,光刻所述隔垫物层以便形成多个所述隔垫物组件,其中,利用全透光曝光工艺,形成所述第一隔垫物;利用半透膜掩膜工艺,形成所述第二隔垫物以及所述连接部,所述第二隔垫物以及所述连接部是同步形成的。由此,可以进一步简化制备工艺。
根据本发明的实施例,形成所述第二隔垫物时,所述半透膜掩膜工艺的半透膜透过率为22-25%;形成所述连接部时,所述半透膜掩膜工艺的半透膜透过率为5-10%。由此,可以简便地获得高度适当的第二隔垫物以及凹形的连接部。
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