[发明专利]彩膜基板及制备方法和显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

衬底；

多个子像素，所述多个子像素设置在所述衬底上，所述多个子像素间隔设置且呈矩阵排列；

多个隔垫物组件，所述隔垫物组件设置在所述多个子像素之间的间隔处，所述隔垫物组件包括第一隔垫物、第二隔垫物以及连接部，所述连接部连接所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物的纵截面为柱状，所述第一个隔垫物的高度，高于所述第二隔垫物的高度，所述连接部为凹形。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物组件包括一个所述第一隔垫物以及两个所述第二隔垫物，所述两个第二隔垫物分别设置在所述第一隔垫物的两侧。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，进一步包括：隔垫物组件连接部，所述隔垫物组件连接部设置在相邻的两个所述隔垫物组件之间。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物组件连接部分别与相邻的两个所述隔垫物组件中的所述第一隔垫物相连；

或者，所述隔垫物组件连接部分别与相邻的两个所述隔垫物组件中的所述第二隔垫物相连。

6.一种制备权利要求1-5任一项所述的彩膜基板的方法，其特征在于，包括：

在衬底上设置多个子像素，所述多个子像素间隔设置且呈矩阵排列；以及

在所述多个子像素的所述间隔处设置多个所述隔垫物组件。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述多个隔垫物组件是通过以下步骤设置的：

在所述多个子像素之上形成隔垫物层，并通过掩膜曝光工艺，光刻所述隔垫物层以便形成多个所述隔垫物组件，

其中，利用全透光曝光工艺，形成所述第一隔垫物；利用半透膜掩膜工艺，形成所述第二隔垫物以及所述连接部，

所述第二隔垫物以及所述连接部是同步形成的。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，形成所述第二隔垫物时，所述半透膜掩膜工艺的半透膜透过率为22-25％；

形成所述连接部时，所述半透膜掩膜工艺的半透膜透过率为5-10％。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，光刻所述隔垫物层进一步包括：

利用所述半透膜掩膜工艺，形成所述隔垫物组件连接部，形成所述隔垫物组件连接部时，所述半透膜掩膜工艺的半透膜透过率为5-10％。

10.一种显示面板，其特征在于，包括：

权利要求1-5任一项所述的彩膜基板；

阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置；以及

液晶层，所述液晶层设置在所述彩膜基板以及所述阵列基板之间。