[发明专利]一种太阳能电池片制备方法

权利要求书

1.一种太阳能电池片的制备方法，其特征在于，步骤包括：在硅基体表面开设开口宽度为500～1200nm、深度为200～500nm的基体孔洞，后经过扩散、附着减反射膜制得太阳能电池片；

步骤包括：S11，沉积金属粒子：将硅基体置于含金属离子的盐及氢氟酸的混合液中沉积金属粒子；

S21，开微纳米孔：将步骤S11所得硅基体置于含氢氟酸及双氧水的刻蚀液中刻蚀；所述刻蚀液中双氧水的体积：氢氟酸的体积：水的体积＝(2～5)：1：(5～8)；步骤S21中所述双氧水的质量浓度为30～32％；所述氢氟酸的质量浓度为49～50％；

S31，削扩微纳米孔：将步骤S21所得硅基体置于含硝酸及氢氟酸的混合酸液中，所述混合酸液中硝酸的体积：氢氟酸的体积：水的体积＝(5.0～9.0):1:(7～10)；步骤S31中所述硝酸的质量浓度为65～68％；所述氢氟酸的质量浓度为49～50％；

S41、除多孔硅及微纳米孔修正：将步骤S31所得硅基体置于碱液中去除多孔硅层及对微纳米孔进行修正；

S51、去除金属粒子；

S61、扩散；

S71、镀减反射膜；

S81、制备太阳能电池电极；

制得太阳能电池片。

2.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S21中刻蚀的时间为200～300s。

3.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S31中混合酸液中硝酸的体积：氢氟酸的体积：水的体积＝(6.0～8.0):1:(8～9)。

4.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S31中置于混合酸液中的时间为80～180s，混合酸液的温度为8～13℃。

5.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S41中所述碱液为质量浓度0.2～5.0％的氢氧化钠或氢氧化钾溶液，置于碱液中的时间为5.0～30s。

6.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S11中含金属离子的盐及氢氟酸的混合液中金属离子的浓度为10～100ppm，氢氟酸在混合液中的体积浓度为0.5～10％；其中，所述氢氟酸的质量浓度为49～50％；

所述步骤S51的去除金属粒子为将步骤S41所得硅基体置于含氨水与过氧化氢的溶液中。

7.根据权利要求1所述的太阳能电池片的制备方法，其特征在于，所述步骤S11前还包括对硅基体进行前处理：

S01，碱初抛；

S02，酸清洗；

所述步骤S51后还包括：

S52，混酸清洗；

S53，慢提拉；

S54，干燥；

所述步骤S61后还包括：

S62、去磷硅玻璃。