[发明专利]一种OLED器件的封装结构及其制备方法、金属掩膜板

说明书

技术领域

本发明涉及OLED器件技术领域，具体而言涉及一种OLED器件的封装结构及其制备方法、金属掩膜板。

背景技术

随着显示技术的发展，柔性显示技术逐渐成为平板显示领域的研究热点，OLED显示器也逐渐成为是显示器发展的大方向。OLED显示器中柔性OLED器件成为研究热点，其中，柔性OLED器件对封装结构的要求非常高，水汽透过率小于10^-6g/m²/day，氧气穿透率小于10^-5cc/m²/day；因此封装结构在OLED器件制作中处于重要的位置，是影响产品良率的关键因素之一。

现有技术中，常采用在OLED器件上交替设置无机层和有机层的方式来形成封装结构，以阻隔水氧；其中，主要依靠无机层来实现对水氧的有效阻隔，有机层的厚度增加时，其水氧阻隔能力也随之增加。但当OLED器件弯曲较大幅度的弯曲时，无机层会承受较大的弯曲应力，非常容易从OLED器件上脱落，导致OLED器件的弯曲性能受到影响。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种OLED器件的封装结构及其制备方法、金属掩膜板，本发明的OLED器件的封装结构能够提高OLED器件的弯曲性能。

为解决上述技术问题，本发明提出的一个技术方案是：提供一种OLED器件的封装结构，该封装结构包括：

在OLED器件上方的若干层交替的阻挡层和缓冲层，至少一层所述阻挡层为图案化结构；所述缓冲层填充在所述阻挡层的图案化区域内。

其中，若干层所述阻挡层中，上一层阻挡层覆盖下一层阻挡层的图案化区域。

其中，若干层所述阻挡层中，除最上层的所述阻挡层外其余的所述阻挡层均为图案化结构；其中，所述最上层的所述阻挡层整面覆盖其下一层的所述阻挡层和缓冲层；或

最上层的所述缓冲层整面覆盖其下一层的所述缓冲层和所述阻挡层，所述最上层的所述阻挡层整面覆盖所述最上层缓冲层。

其中，若干层所述阻挡层中，越靠近所述OLED器件，所述阻挡层的厚度越厚。

其中，所述阻挡层为金属氧化物；所述缓冲层为有机聚合物、树脂或硅基碳氧化物。

其中，所述阻挡层的图案化区域包括多个长方形、多个椭圆形或多个多边形，其中，所述多边形由多个宽度不同的长方形交替连接形成；

所述多个长方形、椭圆形或多边形为平行或交错结构。

其中，所述封装结构还包括有机平坦层，所述有机平坦层设置在若干层所述阻挡层中最下层的所述阻挡层和所述OLED器件之间。

本发明还提出的一个技术方案：提出一种OLED器件封装结构的制备方法，该制备方法包括：

在OLED器件的上方形成若干层交替的阻挡层和缓冲层；其中，至少一层所述阻挡层通过掩膜板刻蚀形成图案化结构；将所述缓冲层填充在所述阻挡层的图案化区域内。

其中，制备若干层所述阻挡层时，上一层阻挡层覆盖下一层阻挡层的图案化区域。

本发明还提出的另一个技术方案：提供一种金属掩膜板，该金属掩膜板用于制造上述OLED器件的封装结构的阻挡层；

所述金属掩膜板包括非镂空区和镂空区；所述镂空区离散的设置在所述非镂空区内；镀膜材料从所述镂空区中通过，并被所述非镂空区阻挡，以形成与所述非镂空区和镂空区对应的图案化的所述阻挡层。

有益效果：区别于现有技术，本发明提供的OLED器件的封装结构包括在OLED器件上方的若干层交替的阻挡层和缓冲层，至少一层所述阻挡层为图案化结构；所述缓冲层填充在所述阻挡层的图案化区域内。通过将缓冲层填充在阻挡层的图案化区域内，使得阻挡层不再是一个整面的结构，而是在图案化区域内填充有缓冲层的间隔的结构；当OLED器件弯曲时，填充在图案化区域内的缓冲层对阻挡层承受的弯曲应力进行释放，进而减小阻挡层承受的弯曲应力，使得OLED器件发生较大幅度的弯曲时，阻挡层也不会从OLED器件上脱落，进而提升了OLED器件的弯曲性能。

附图说明

图1是现有技术中OLED器件的封装结构的结构示意图；

图2是本发明OLED器件的封装结构第一实施例的结构示意图；

图3是本发明OLED器件的封装结构第二实施例的结构示意图；

图4是本发明OLED器件的封装结构第三实施例的结构示意图；

图5是本发明OLED器件的封装结构第四实施例的结构示意图；

图6a-图6e是图2至图5中阻挡层的图案化结构的示意图；