[发明专利]一种无接触插片石墨舟有效
申请号: | 201710096812.4 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN107046080B | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
发明(设计)人: | 何达能;方结彬;陈刚 | 申请(专利权)人: | 广东爱旭科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/673 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 528137 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 接触 石墨 | ||
本发明公开了一种无接触插片石墨舟,由绝缘棒和在水平方向上排列的单元舟片组成,单元舟片为竖向设置的片状体,相邻单元舟片之间具有间隙,绝缘棒于各单元舟片周缘贯穿而将全部单元舟片连接在一起,位于两外侧单元舟片内外表面上设有凹槽,在凹槽底面上设有贯通该对应凹槽的细孔,位于中间单元舟片上设有通孔,在凹槽和通孔外围设有卡点,硅片贴附在凹槽和通孔上由卡点固定且硅片周缘遮盖在凹槽和通孔周边区域上,在周边区域上分布有喷气孔,由喷气孔喷出的保护气体对硅片施加推力使硅片与单元舟片不接触以避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦。本发明可避免硅片表面产生划痕,也避免了镀膜不均,提高了太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。
技术领域
本发明涉及一种石墨舟,尤其涉及一种无接触插片石墨舟。
背景技术
太阳能电池的制造需要经过制绒、扩散、刻蚀、镀膜、丝网印刷和烧结这六大工序。其中,镀膜工序是采用等离子增强化学气相沉积的方法在硅片正面镀氮化硅膜,以减少太阳光反射以及对硅片表面起钝化作用。硅片进行其表面镀膜工序时,需要将未镀膜的硅片插入PECVD真空镀膜设备的载片器上,目前,载片器通常采用石墨舟,一般是操作人员将花篮中的硅片插入专门的石墨舟或者通过自动上下料机将硅片插入专门的石墨舟,具体操作过程是:将硅片插入石墨舟并通过固定卡点定位于其上,然后,将载有硅片的石墨舟放置在PECVD真空镀膜设备中,采用PECVD工艺对硅片进行镀膜。
现有的石墨舟一般采用3个固定卡点卡住硅片的三条边,将硅片固定住。但是,在插片过程中,硅片会与石墨舟发生摩擦,导致硅片表面产生划痕,影响电池的外观合格率。尤其是对于双面电池而言,硅片表面产生划痕会影响正面和背面的电池外观。另外,在插片过程中,石墨舟的表面也会变得粗糙,导致硅片镀膜不均匀,增加了电池产品的外观不良率,降低了电池的光电转换效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够提高电池外观良品率、提高光电转换效率的无接触插片石墨舟,解决了传统镀膜石墨舟所存在的硅片划痕和镀膜不均的技术问题。
本发明的目的通过以下的技术措施来实现:一种无接触插片石墨舟,其特征在于:它主要由绝缘棒和在水平方向上排列的数个单元舟片组成,所述单元舟片为竖向设置的片状体,相邻的单元舟片之间具有间隙,所述绝缘棒于各单元舟片的周缘贯穿而将全部的单元舟片连接固定在一起,位于两外侧的单元舟片的内外表面上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的凹槽,位于外侧单元舟片内外表面上的凹槽相对应,在凹槽的槽底面上设有贯通该对应凹槽的用于抽真空的细孔,位于中间的单元舟片上设有若干与硅片形状相同且其尺寸小于硅片尺寸的通孔,在所述凹槽和通孔的外围设有用于固定硅片的卡点,硅片贴附在凹槽和通孔上由卡点固定且硅片的周缘遮盖在凹槽和通孔的周边区域上,在该周边区域上分布有与气源相连通的喷气孔,由喷气孔喷出的保护气体对硅片施加推力而使硅片与单元舟片不接触以便避免插片时硅片与单元舟片发生摩擦。
本发明在插片过程中,由喷气孔喷出保护气体,对硅片相对于喷气孔的那一面施加推力作用,而使硅片与单元舟片保持一定的空隙,即使得硅片与单元舟片不接触,从而避免硅片与石墨舟片发生摩擦,进而避免硅片表面产生划痕,同时也避免了镀膜不均,提高了太阳能电池的外观合格率和光电转换效率。另外,本发明由在水平方向上排布的若干个单元舟片组成,在单元舟片上设有呈阵列排布的若干个凹槽和通孔,可以根据镀膜工艺的实际情况和需要,调整待镀膜硅片在单元舟片上的阵列分布,从而提高硅片镀膜的均匀性。
作为本发明的一种实施方式,所述单元舟片的数量为2~50,相邻单元舟片之间的间距为5~50mm。
作为本发明的一种实施方式,位于外侧的单元舟片每一面上的凹槽的数量为5~20,位于每个中间的单元舟片上的通孔的数量为5~20,所述凹槽和通孔在单元舟片上呈阵列均匀分布,相邻凹槽之间、相邻通孔之间的间距是5~300mm。
作为本发明的一种实施方式,所述凹槽和通孔的深度是0.5~10mm。
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