[发明专利]一种N型选择性发射极双面电池及其加工方法

权利要求书

1.一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：包括N型基体（1），N型基体（1），一侧依次设置有重掺杂发射极区域（2）、轻掺杂发射极区域（3）、正面钝化减反膜（4）、正面电极（5），另一侧依次设置有磷掺杂背表面场区域（6）、背面钝化减反膜（7）和背面电极（8）；其中：正面电极（5）穿过正面钝化减反膜（4）与重掺杂发射电极（2）形成欧姆接触；背面电极（8）穿过背面钝化减反膜（7）与磷掺杂背表面场（6）形成欧姆接触。

2.根据权利要求1所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：重掺杂发射极区域（2）由若干个直线形、线段形或者圆形发射极单元（21）排列而成，每一个发射极单元（21）的宽度或者直径为80微米-300微米，重掺杂区域面积占正表面面积的4%-30%。

3.根据权利要求2所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：重掺杂发射极区域（2）的若干个发射极单元（21）为直线时, 其上形成局部接触电极（11）,局部接触电极(11)之间通过主栅线（9）连接；重掺杂发射极区域（2）的若干个发射极单元（21）为线段或者圆形时,其上形成局部接触电极（11），局部接触电极（11）之间通过若干连接栅线（10）连接，若干连接栅线（10）之间通过一系列主栅线（9）汇流，并且连接栅线（10）、主栅线（9）不与磷掺杂背表面场（6）形成欧姆接触。

4.根据权利要求3所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：重掺杂发射极区域（2）的发射极单元（21）为直线形或线段形时，其宽度为10-100μm；圆形时，直径为30-100μm；连接栅线（10）宽度为20μm-100μm，主栅线（9）宽度为0.5mm-1.5mm。

5.根据权利要求1所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：轻掺杂发射极区域（3）的方阻为90-250ohm/sq。

6.根据权利要求1或5所述的一种N型选择性发射极双面电池其特征在于：重掺杂发射极区域（2）的方阻为10-70ohm/sq。

7.根据权利要求6所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：重掺杂发射极区域（2）的正面钝化减反膜（4）为SiNx、SiO₂、TiO₂、 Al₂O₃、SiOxNy薄膜中的一种或者多种，并且其厚度为50-90nm。

8.根据权利要求7所述的一种N型选择性发射极双面电池，其特征在于：轻掺杂发射极区域（3）的背面钝化减反膜（7）为SiNx、SiO₂、TiO₂、 Al₂O₃、SiOxNy薄膜中的一种或者多种，并且其厚度为50-90nm。

9.加工1-8任意一项所述的N型选择性发射极双面电池的方法，其特征在于：N型基体的正面的轻掺杂发射极采用BBr₃高温扩散，APCVD法沉积BSG退火，离子注入硼源退火工艺形成，丝网印刷含硼浆料高温退火其中一种制成。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：N型基体的正面的重掺杂发射极采用丝网印刷阻挡浆料刻蚀工艺、通过BSG的激光掺杂、丝网印刷含硼浆料高温退火、离子注入工艺中的其中一种形成。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于：N型基体的背面的磷掺杂背表面场区域采用高温扩散、APCVD沉积PSG退火、离子注入高温退火、丝网印刷磷浆高温退火工艺中的其中一种形成。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于：正面电极和背面电极采用丝网印刷、电镀、化学镀、喷墨打印、物理气相沉积金属层形成，其中金属为Ni、Cu、Ag、Ti、Pd、Cr数种的组合。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于：连接栅线和主栅线采用丝网印刷烧结、导电胶粘接或者金属线焊接而成；其中：

连接栅线和主栅线为Ag, 表面包覆In、Sn、Pb的Cu带或者含有金属颗粒的有机物。