[发明专利]一种利用调制高功率脉冲磁控溅射制备AlTiN硬质涂层的方法在审
| 申请号： | 201710020783.3 | 申请日： | 2017-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN106868450A | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 周晖;郑军;王启民;贵宾华;张延帅;杨拉毛草;桑瑞鹏;赵栋才 | 申请（专利权）人： | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 | 代理人： | 钟国 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 利用 调制 功率 脉冲 磁控溅射 制备 altin 硬质 涂层 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用调制高功率脉冲磁控溅射制备AlTiN硬质涂层的方法，包括抽真空、基体除气、基体清洗和在基体上溅射沉积AlTiN硬质涂层，其特征在于，在基体上溅射AlTiN硬质涂层的工艺参数如下：
调制高功率脉冲电源的放电电压300～600 V，频率100～300Hz，峰值电流100～300 A，峰值电压400～800V；
靶材的成分为：Al 60～70 at.%，余量为Ti；
氮气流量为100～300sccm；
基体负偏压：50～200V。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，溅射沉积时间为60～180分钟。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将真空度抽至1×10-3～8×10-3Pa后，再将基体加热至300～500℃进行除气，直至真空度达到1×10-3～8×10-3Pa。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，完成除气后，在真空度为0.5～1Pa下利用等离子体源对基体进行清洗。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，等离子体源功率为5～10 kW，清洗时间10～30分钟。
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