[发明专利]OLED器件及其制造方法以及显示装置

说明书

本发明提供了一种OLED器件及其制造方法以及显示装置，所述OLED器件包括：基板以及依次设置在所述基板上的阳极、有机层和阴极，还包括电子注入层，位于所述有机层与阴极之间；所述阳极与阴极均由ITO制成，所述电子注入层由金属材料制成，所述金属材料为活泼金属或活泼金属与惰性金属的合金，在提高透光率的同时，避免了ITO的功函较高造成的高电压，使得OLED器件同时满足电压与透光率的需求。

技术领域

本发明涉及平板显示领域，具体涉及一种OLED器件及其制造方法以及显示装置。

背景技术

有机电致发光二极管(organic light emitting diode，OLED)按照出光方式分为底发射OLED和顶发射OLED以及透明OLED。底发射OLED内部发出的光相继经过透明阳极、透明基板射出。采用这种方式制作的显示屏由于驱动电路和显示区域要同时制作在透明基板上，导致显示区域面积相对减小，显示屏的开口率降低。

与底发射OLED相比，顶发射OLED由于本身的结构特点，光可以从顶部电极射出，由于像素驱动电路、总线等制作在显示区域的下方，使得器件的开口率大大提高，进而实现显示屏的高分辨率。同时通过利用顶发射OLED结构中存在的微腔效应，还可以对OLED显示屏的显示色域进行改善，提高显示效果。

与上面两种OLED有较大的不同，透明OLED内产生的光可以分别从基板下方和基板上方发射出去，外部环境光也可以穿透透明OLED，因此透明OLED可以有很多特殊的应用。

顶发射OLED和透明OLED的主要难点是需要选择合适的阴极材料，既要具有较低的功函数，以保证有效的电荷注入，又要获得较好的透光率，且有较低的电阻。常用的阴极材料如铝(Al)、镁银合金(Mg-Ag)、银(Ag)等只有在非常薄的厚度下才具有很好的光线穿透性，但是当金属层很薄时，常常会有断路或者金属容易氧化的问题，不能形成有效的欧姆接触，在界面上容易形成缺陷导致电荷注入过程损耗增加。

现有技术中选择透明导电材料，如氧化铟锡(indium tin oxides，ITO)等作为阴极，以此提高透光率来制备透明OLED或顶发射OLED，但是作为阴极，透明导电材料的功函较高，直接与有机层接触会导致很高的电压，因此如何降低该类型器件电压而又不降低透光率成为一个技术难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OLED器件及其制造方法以及显示装置，降低阴极电压的同时不降低透光率。

为实现上述目的，本发明提供一种OLED器件，包括基板以及依次设置在所述基板上的阳极、有机层和阴极，还包括电子注入层，位于所述有机层与阴极之间；所述阴极由透明导电材料制成，所述电子注入层由金属材料制成，所述金属材料为活泼金属或活泼金属与惰性金属的合金。

可选的，所述透明导电材料为ITO，所述电子注入层为镁与银的合金。

可选的，所述电子注入层的厚度为1nm～5nm；所述电子注入层中镁与银的质量比为1:1～10:1。

可选的，所述电子注入层的厚度为2nm；所述电子注入层中镁与银的质量比为4:1。

相应的，本发明还提供一种有机发光显示装置，包含上述的OLED器件。

相应的，本发明还提供一种OLED器件的制造方法，包括：

提供一基板，在所述基板上形成阳极与有机层；

在所述有机层上形成电子注入层，所述电子注入层由金属材料制成，所述金属材料为活泼金属或活泼金属与惰性金属的合金；

在所述电子注入层上形成透明阴极。

可选的，所述透明阴极为ITO，所述电子注入层为镁与银的合金。