[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理用反应容器的构造

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，被构成为使导入到电极板与喷淋板之间的工艺气体通过形成在喷淋板上的多个小孔而向对置电极排出，其特征在于，

所述等离子体处理装置包括：设置在反应容器内的电极板、在所述反应容器内与所述电极板平行对置的对置电极、贯通连接于所述电极板并对所述电极板供给周波电力的传输路、以及实现气体供给功能并贯通连接于所述电极板而实现对该电极板供电功能的金属管，

与所述喷淋板大致平行配置并具有多个小孔的扩散板设置在所述电极板与所述喷淋板之间，

所述工艺气体被导入到所述电极板与所述扩散板之间，依次通过所述扩散板的多个小孔而到达所述喷淋板，并从所述喷淋板的多个小孔向所述对置电极流出，

所述电极板由主电极板和在其下方具有多个小孔的第一扩散板、第二扩散板、以及喷淋板构成，所述第一扩散板和所述第二扩散板构成所述扩散板，

在所述主电极板与所述第一扩散板之间的第一空间中，所述金属管的第一空间露出部分设有在周向露出的多个气体喷出口，除去气体供给口和所述气体喷出口以外，所述金属管内部沿着其长度方向形成的气体供给通道被封闭，

所述主电极板与所述第一扩散板的间隔D1、所述第一扩散板与所述第二扩散板的间隔D2、所述第二扩散板与所述喷淋板的间隔D3满足D1＞D2≒D3，

所述第一扩散板的多个小孔的直径R1、所述第二扩散板的多个小孔的直径R2、所述喷淋板的多个小孔的直径R3满足R1＞R2＞R3，

由所述第一扩散板的多个小孔产生的开口率H1、由所述第二扩散板的多个小孔产生的开口率H2、由所述喷淋板的多个小孔产生的开口率H3满足H1＜H2＜H3，

对所述电极板供给周波电力的传输路由以下部件构成：

一个周波电力发生器；

一个匹配器，进行所述周波电力发生器与反应容器内的等离子空间的阻抗匹配；

传输板，传导所述匹配器的输出；以及

分配传输板，由分配来自所述传输路的周波电力的长度、电阻值大致相同的多个正交的叶片状支板构成，

其中，各分配传输板分别与所述金属管连接而对所述电极板供给周波电力。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

形成在所述第一扩散板、所述第二扩散板、以及所述喷淋板上的多个小孔的形成位置均匀地配置成通过上下方向而彼此不重合。

3.一种等离子体处理用反应容器，被构成为使导入到电极板与喷淋板之间的工艺气体通过形成在喷淋板上的多个小孔而向对置电极排出，其特征在于，

所述等离子体处理装置包括：设置在反应容器内的电极板、在所述反应容器内与所述电极板平行对置的对置电极、贯通连接于所述电极板并对所述电极板供给周波电力的传输路、以及实现气体供给功能并贯通连接于所述电极板而实现对该电极板供电功能的金属管，

与所述喷淋板大致平行配置且具有多个小孔的扩散板设置在所述电极板与所述喷淋板之间，

所述工艺气体被导入到所述电极板与所述扩散板之间，依次通过所述扩散板的多个小孔而到达所述喷淋板，并从所述喷淋板的多个小孔向所述对置电极流出，

所述电极板由主电极板和在其下方具有多个小孔的第一扩散板、第二扩散板、喷淋板构成，所述第一扩散板和所述第二扩散板构成所述扩散板，

在所述主电极板与所述第一扩散板之间的第一空间中，所述金属管的第一空间露出部分设有在周向露出的多个气体喷出口，除去气体供给口和所述气体喷出口以外，所述金属管内部沿着其长度方向形成的气体供给通道被封闭，

所述主电极板与第一扩散板的间隔D1、第一扩散板与第二扩散板的间隔D2、第二扩散板与喷淋板的间隔D3满足D1＞D2≒D3，

第一扩散板的多个小孔的直径R1、第二扩散板的多个小孔的直径R2、喷淋板的多个小孔的直径R3满足R1＞R2＞R3，

由第一扩散板的多个小孔产生的开口率H1、由第二扩散板的多个小孔产生的开口率H2、由喷淋板的多个小孔产生的开口率H3满足H1＜H2＜H3，

对所述电极板供给周波电力的传输路由以下部件构成：

一个周波电力发生器；

一个匹配器，进行所述周波电力发生器与反应容器内的等离子空间的阻抗匹配；

传输板，传导所述匹配器的输出；以及

分配传输板，由分配来自所述传输路的周波电力的长度、电阻值大致相同的多个正交的叶片状支板构成，

其中，各分配传输板分别与所述金属管连接而对所述电极板供给周波电力。