[发明专利]用于法布里-珀罗干涉仪的镜板以及法布里-珀罗干涉仪

说明书

一种用来制造用于法布里‑珀罗干涉仪（300）的镜板（100）的方法，包括：‑提供包括硅（Si）的基板（50），‑在基板（50）上实现半透明反射涂层（110），‑通过在基板（50）中蚀刻多个空隙（E1）并且通过钝化空隙（E1）的表面来在基板（50）中和/或在基板（50）上形成钝化区域（70a），‑在钝化区域（70a）的顶部上形成第一传感器电极（G1a），以及‑形成由基板（50）支撑的第二传感器电极（G1b）。

技术领域

一些变型涉及法布里-珀罗干涉仪。

背景技术

法布里-珀罗干涉仪包括第一半透明镜子和第二半透明镜子，其被布置为形成光学腔。法布里-珀罗干涉仪可以提供一个或多个透射峰。可以通过改变镜子之间的距离来改变透射峰的光谱位置。镜子之间的距离可以称为镜子间隙或者镜子间距。执行光谱测量可以包括确定透射峰的光谱位置。干涉仪可以包括用于监测可调节镜子间隙的电容传感器。干涉仪的透射峰的光谱位置可以通过例如监测电容传感器的电容来确定。

发明内容

一些变型可以涉及法布里-珀罗干涉仪。一些变型可以涉及用于法布里-珀罗干涉仪的镜板。一些变型可以涉及包括法布里-珀罗干涉仪的装置。一些变型可以涉及制造用于法布里-珀罗干涉仪的镜板的方法。一些变型可以涉及用于确定法布里-珀罗干涉仪的光谱位置的方法。一些变型可以涉及制造法布里-珀罗干涉仪的方法。一些变型可以涉及通过法布里-珀罗干涉仪测量光谱数据。一些变型可以涉及校准法布里-珀罗干涉仪。

根据一方面，提供了一种用来制造用于法布里-珀罗干涉仪（300）的镜板（100）的方法，该方法包括：

-提供包括硅（Si）的基板（50），

-在基板（50）上实现半透明反射涂层（110），

-通过在基板（50）中蚀刻多个空隙（E1）并且通过钝化空隙（E1）的表面来在基板（50）中和/或基板（50）上形成钝化区域（70a），

-在钝化区域（70a）的顶部上形成第一传感器电极（G1a），以及

-形成由基板（50）支撑的第二传感器电极（G1b）。

在权利要求中限定另外的方面。

法布里-珀罗干涉仪的镜板可以包括一个或多个钝化区域，其可被布置为减少或防止经由硅基板从第一传感器电极到第二传感器电极的耦合。钝化区域可以改进测量精度。

法布里-珀罗干涉仪包括第一镜板和第二镜板。可以通过改变镜子间隙来改变干涉仪的透射峰的光谱位置。干涉仪可以包括用于监测镜子间隙的传感器电极。传感器电极可以形成传感器电容器，以使得传感器电容器的电容取决于镜子间隙。镜子间隙的改变可改变传感器电极之间的距离。改变传感器电极之间的距离可改变传感器电容的电容。因此，传感器电容器的电容可以取决于镜子间隙，以使得可以基于传感器电容器的电容来监测镜子间隙。

镜板的反射涂层和传感器电极可以在硅基板上实现，例如以便以低制造成本提供高度稳定的区域。干涉仪可以是微机电系统（MEMS）。硅在长于1.1 μm的波长下可以是基本上透明的。因此，干涉仪可以适合于在红外区域中使用。当与硼硅酸盐玻璃相比时，在长于2μm的波长下，硅的吸光度可以基本低于低膨胀硼硅酸盐玻璃（“BK7”）的吸光度。然而，硅基板的接近可干扰电容传感器电极的操作。硅的电导率可以取决于操作温度，并且传感器电极可以耦合到基板。传感器电极可以经由基板彼此耦合。到基板的耦合可导致在监测镜子间隙方面的温度相关误差。基板的变化的电导率可干扰镜子间隙的电容监测。干涉仪可以包括一个或多个钝化区域，其可被布置为抑制或消除干扰效应。

钝化区域可以包括钝化的三维结构。钝化区域可以包括钝化的三维微结构。钝化结构可以提供厚的电绝缘层，其可以减少传感器电极和基板之间的耦合。钝化区域的厚度可以是例如大于10μm。钝化微结构可以将传感器电极从基板解耦。钝化区域可以减小从传感器电极到基板的泄漏电流的幅值。