[实用新型]一种VFL组合池生化系统有效
申请号: | 201620921239.7 | 申请日: | 2016-08-23 |
公开(公告)号: | CN206156955U | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 王堤;宋康年;钟汉民;彭如初;赵海亮;江峰;王丽丹;郑卓峰 | 申请(专利权)人: | 中环保水务投资有限公司;湖州中环污水处理有限公司 |
主分类号: | C02F9/14 | 分类号: | C02F9/14 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 100089 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 vfl 组合 生化 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种VFL组合池生化系统,属污水处理技术领域。
背景技术
我国是一个水资源短缺的国家,由于长期采用粗放型经济增长模式,造成了更为严峻的资源环境代价,随着社会经济的进一步发展,水资源短缺与水环境污染的基本矛盾将会更加突出,水资源短缺与水环境污染已成为我国经济快发展的一个重要制约因素。印染行业是我国重点污染行业之一,其废水排放量及污染物排放总量均位居前列,因此,对印染废水进行深度处理回用,提高印染废水的回用率,对减轻行业发展对水环境的污染及水资源的过渡消耗有重要的意义。常规氧化沟系统处理工艺抗冲击负荷能力强,污染物去除率高,但投资较高、占地面积大;水解酸化+好氧处理工艺投资低,脱氮除磷效果好,抗冲击负荷能力较强,但设备较多,配置复杂,操作要求高等。
发明内容
(一)要解决的技术问题
为解决上述问题,本实用新型提出了一种结构简单合理紧凑,处理效果好,使用寿命长,设备少,投资省,操作简单,运行维护费用低,且经久耐用,自动化程度高,降低了用工成本的VFL组合池生化系统。
(二)技术方案
本实用新型的一种VFL组合池生化系统,其包括:进水口、厌氧区、缺氧区、好氧区、沉淀区和出水口;所述的进水口连接有厌氧区,所述的厌氧区连接着缺氧区,所述的缺氧区连接着好氧区,所述的好氧区连接着沉淀区,所述的沉淀区连接着出水口。
进一步地,所述的厌氧区与所述的缺氧区之间设置有内回流。
进一步地,所述的沉淀区与所述的好氧区和所述的缺氧区之间均设置有污泥回流。
进一步地,所述的厌氧区和所述的缺氧区均设置有垂直流迷宫式的结构状体。
进一步地,所述的厌氧区和所述的缺氧区内设置有竖向导流板。
(三)有益效果
本实用新型与现有技术相比较,其具有以下有益效果:本实用新型结构简单合理紧凑,处理效果好,使用寿命长,设备少,投资省,操作简单,运行维护费用低,且经久耐用,自动化程度高,降低了用工成本,满足了经济、环保的要求。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示的一种VFL组合池生化系统,其包括:进水口、厌氧区、缺氧区、好氧区、沉淀区和出水口;所述的进水口连接有厌氧区,所述的厌氧区连接着缺氧区,所述的缺氧区连接着好氧区,所述的好氧区连接着沉淀区,所述的沉淀区连接着出水口;
其中,所述的厌氧区与所述的缺氧区之间设置有内回流;
所述的沉淀区与所述的好氧区和所述的缺氧区之间均设置有污泥回流;
本实用新型中,所述的厌氧区和所述的缺氧区均设置有垂直流迷宫式的结构状体,从结构上大大延长了厌氧区和缺氧区的流程,消除回流活性污泥对厌氧区和缺氧区的不利影响,并大幅度地提高其脱氮效率,同时有利于除磷,控制和适应厌氧区、缺氧区对碳源的利用;所述的厌氧区和所述的缺氧区内设置有竖向导流板,将厌氧区和缺氧区分隔成为几个串联的反应室,每个反应室都是相对独立的上下流式污泥床系统;本实用新型中沉淀区中的活性污泥一部分回流到缺氧区,这部分污泥带有溶解氧,同样由于垂直流结构的特点,水流至缺氧区,溶解氧浓度迅速下降,反硝化在较长的缺氧流程中进行非常彻底,并充分利用污水中的碳源,其反硝化速率远远高于依靠内源呼吸作用进行的反硝化,因此需要的反硝化停留时间短、容积小,沉淀区内除了一半的活性污泥用于反硝化外,另一半活性污泥回流到好氧区。这种流动使污泥能够保持活性。在好氧区,基本处于低负荷的完全混合式反应区,微生物处于活性较低的状态,吸附和降解有机物的活性逐步增强,提高了反应效率和处理效果,同时污泥可以长时间保持活性,在自代谢的过程中实现污泥减量化。这种特殊的混合液和污泥回流,使得整个系统缺氧区、好氧区均可排出剩余污泥。
本实用新型结构简单合理紧凑,处理效果好,使用寿命长,设备少,投资省,操作简单,运行维护费用低,且经久耐用,自动化程度高,降低了用工成本,满足了经济、环保的要求。
上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下,本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本实用新型的保护范围,本实用新型请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。
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