[实用新型]一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕有效

专利信息
申请号: 201620105919.1 申请日: 2016-02-02
公开(公告)号: CN205364983U 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 边朝晖 申请(专利权)人: 边朝晖
主分类号: B44C3/02 分类号: B44C3/02
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;李娜
地址: 100015 北京市朝阳区酒仙桥*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 单体 浮雕 造型 组合 隐藏 接缝
【说明书】:

【技术领域】

实用新型是一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,尤其指浮雕无缝组合浮雕,可以同时利用多个单体浮雕造型组合而成的浮雕,属于艺术品加工技术领域。

【背景技术】

浮雕、壁画是重要的装饰物之一,其适用广泛、空间效果强烈,既具有造型艺术的特点,由具有建筑艺术的某些特征,它们不仅丰富着人们的生活、工作、商业、公共设施等空间,还承载着文化、历史的宣传和展示,是不可等闲忽视的。目前习知的浮雕、壁画大体有两类,其中一类有如下缺陷:(1)浮雕造型内部没有任何结构,(2)由于材料尺寸限制,拼接是按长方体或正方体材料为拼接单元,在每个长方体或正方体拼接单元材料上雕刻,常常造成破坏造型的现象;且在单一材质表面进行半立体的雕刻,只是在浮雕造型的背面为安装连接设有孔槽,这样就使得习知的浮雕表面色彩单一,浮雕内容及大小受造型所限,并且会在主要造型部分产生破坏性拼缝;另一类习知是使用镶嵌或粘合技术的壁画,具体是将两种造型直接拼接而成,此种方式使壁画表面效果拼缝简单暴露明显,日久容易开胶、脱落,并且表面平板。

上述习知使现有的浮雕、壁画由于内部结构简单导致表面色彩单一、材质单一、小型化或者拼接缝暴露,并且会在主要造型部分产生破坏性拼缝,主要的装饰美观部分都具有局限性,有待改善。

【实用新型内容】

本实用新型的目的是在于提供一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,以解决现有技术中浮雕拼接是按长方体或正方体材料为拼接单元,浮雕造型部分产生破坏性拼缝,小型化及拼接缝暴露易开胶脱落等缺陷。

本实用新型的一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,其是由多块单体浮雕造型为拼接单元的多边体造型组合而成,每个多边体又分三层,具体为:雕刻层位于最表层,用于艺术家的雕刻创作;第二层为隐缝结构层,每块造型的隐缝结构层与相邻造型隐缝结构层的接触面为互补斜面,且可被相邻造型斜出的雕刻层掩盖达到隐藏拼缝的效果;最内层为榫卯结构层,该层设有凹凸配合部,使得相邻的造型可以通过该凹凸配合部榫卯连接并固定,且连接拼缝可被上述隐缝结构层遮挡。

其中,所述的浮雕整体被进一步固定在一块背板或一固定架上。

其中,所述的雕刻层、隐缝结构层及榫卯结构层为一体成型。

其中,所述的雕刻层、隐缝结构层及榫卯结构层为粘接而成。

本实用新型一种多个单体浮雕造型组合并隐藏接缝的浮雕,其优点及功效在于:可以使浮雕创作不受原造型尺寸大小限制,使浮雕尺寸整体可以达到几百平米甚至以上;多块造型间使用榫卯结构相互咬合制成,不存在开胶、脱落等现象;隐缝结构层的设计使得多块造型间的拼接缝被隐藏在内,整体美观、大方。

【附图说明】

图1所示为本实用新型实施例1的平面结构图;

图2所示为实施例1中造型二的平面结构图;

图3所示为实施例1中造型二拼接部分的立体结构图;

图4所示为图2的A向剖面图;

图5所示为图2中B向剖面图;

图6所示为实施例1中造型三的平面结构图;

图7所示为实施例1中造型三拼接部分的立体结构图;

图8所示为图6的A向剖面图;

图9所示为图6的B向剖面图;

图10所示为实施例1中造型四的平面结构图;

图11所示为实施例1中造型四拼接部分的立体结构图;

图12所示为图10的A向剖面图;

图13所示为图10的B向剖面图;

图14所示为实施例1中三种造型拼接立体结构图;

图15所示为本实用新型实施例2的平面结构图;

图16所示为实施例2中造型五的结构图;

图17所示为图16的C向立体结构图;

图18所示为图16的A向剖面图;

图19所示为图16中B向剖面图;

图20所示为实施例2中造型六的结构图;

图21所示为图20的C向立体结构图;

图22所示为图20的A向剖面图;

图23所示为图20的B向剖面图;

图24所示为实施例2中造型七的结构图;

图25所示为图24的C向立体结构图;

图26所示为图24中的A向剖面图;

图27所示为图24中的B向剖面图;

图28所示为实施例2中三种造型拼接立体结构图。

图29所示为本实用新型隐藏拼缝结构原理图。

图中标号具体如下:

1、造型一2、造型二3、造型三4、造型四

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