[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法以及显示面板和显示器

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括衬底基板(1)、黑矩阵(2)、像素单元(3)和导电层(4)；其中所述黑矩阵(2)覆盖在所述衬底基板(1)上形成黑矩阵图案，且所述衬底基板(1)上对应于所述黑矩阵图案的开口处形成有像素凹槽；所述像素单元(3)与所述像素凹槽一一对应的填充在相应的像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口中，且所述像素单元(3)的上表面与所述黑矩阵(2)的上表面平齐；所述导电层(4)覆盖在所述黑矩阵(2)和所述像素单元(3)的表面上。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵(2)的厚度为1.2-1.5μm，所述像素单元(3)的厚度为1.5-2.0μm。

3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素单元包括两两相邻的红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)。

4.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

S1、在衬底基板上形成所需图案的黑矩阵；

S2、以所述黑矩阵为掩膜刻蚀所述衬底基板，在所述衬底基板对应于黑矩阵图案的开口处形成相应的像素凹槽；

S3、填充所述像素凹槽和所述黑矩阵图案的开口，形成上表面与所述黑矩阵的上表面平齐的像素单元；以及

S4、在所述黑矩阵和所述像素单元表面上形成导电层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述S1包括：

S11、在所述衬底基板上涂覆黑矩阵光刻胶，形成黑矩阵光刻胶层；

S12、对所述黑矩阵光刻胶进行曝光显影，形成具有黑矩阵图案的黑矩阵前体；

S13、干燥所述黑矩阵前体形成所述黑矩阵。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述S2中采用浓度为3-8wt％氢氟酸溶液作为刻蚀液对所述衬底基板进行刻蚀处理以形成所需的像素凹槽。

7.根据权利要求4所述的方法，其中，所述像素单元包括两两相邻的红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)；所述S3包括按顺序依次在相应的所述像素凹槽中形成红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)和蓝色像素单元(33)。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述S3分别形成红色像素单元(31)、绿色像素单元(32)或蓝色像素单元(33)时，均包括以下步骤：

S31、在衬底基材形成有像素凹槽一侧的表面上涂覆相应颜色的像素单元光刻胶，形成相应的像素单元光刻胶层；

S32、对所形成的像素单元光刻胶层进行曝光显影，以在相应的像素凹槽中形成相应的像素单元前体；

S33、干燥所述像素单元前体形成所述像素单元。

9.一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及设置在两者之间的液晶层，其特征在于，所述彩膜基板为权利要求1至3中任意一项所述的彩膜基板。

10.一种显示器，所述显示器包括显示面板，其特征在于，所述显示面板为权利要求9所述的显示面板。