[发明专利]一种单晶样片腐蚀机

权利要求书

1.一种单晶样片腐蚀机，其特征在于，包括机械手、腐蚀工艺槽、清洗水槽；其中，机械手上设有水平移动机构、垂直移动机构和吸盘转动机构；腐蚀工艺槽由带有通孔的腐蚀平台、带有控温盘管的混液槽、腐蚀剂溢流循环系统、设置在腐蚀工艺槽周围的排风系统组成。

2.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述水平移动机构和垂直移动机构由电机与齿条组成。

3.如权利要求1或2所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述垂直移动机构可上下移动，工作时将样片稳定在腐蚀平台上方，与平台间距1-10mm，接触到腐蚀剂液面。

4.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述吸盘旋转机构运行时，旋转速度从0-50rpm可调。

5.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述腐蚀平台上开有通孔列阵，通孔直径为2-10mm。

6.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述腐蚀工艺槽四周设有排风框架，框架设有排风管道与厂务排风相连，框架内侧开有排风孔。

7.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述腐蚀工艺槽下方设有混液槽，控温槽内部设有控温盘管，控温槽与上层腐蚀工艺槽由溢流回流管相连，控温槽通过管道、循环泵与腐蚀平台相连。

8.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：机体与腐蚀剂接触部位材质为聚乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯或衬附聚四氟乙烯不锈钢；吸盘旋转机构末端吸盘材质为含氟橡胶或聚四氟乙烯。

9.如权利要求1所述的单晶样片腐蚀机，其特征在于：所述单晶样片腐蚀机适用的腐蚀剂包括氢氧化钠、氢氧化钾、硝酸氢氟酸混合酸、硅材料择优腐蚀剂。