[发明专利]一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法

权利要求书

1.一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述方法包括：

获得标准版图几何信息数据库；

获得待匹配版图几何信息；

将所述待匹配版图几何信息和所述标准版图几何信息数据库中的几何信息进行匹配；

根据匹配结果选取第一标准版图；

将所述第一标准版图所对应的光刻解决方案作为所述待匹配版图的光刻解决方案候选，预测所述待匹配版图的光刻解决方案；

其中，所述获得标准版图几何信息数据库包括：

获得标准版图集合以及集合中各个标准版图对应的光刻解决方案；

根据所述标准版图获得所述标准版图的几何信息；

对所述标准版图几何信息进行统计与分类；

根据所述标准版图几何信息的提取结果、统计结果、分类结果，获得所述标准版图几何信息，并存入数据库；

其中，所述标准版图的几何信息包括：标准版图中所有图形的线宽和间距和角对角的宽度和角对角的间距；

其中，所述获得待匹配版图几何信息包括：

获得待匹配版图的特征图形；

根据所述特征图形获得所述特征图形的几何信息；

对所述特征图形几何信息进行统计与分类；

根据所述特征图形几何信息的提取结果、统计结果、分类结果，获得所述待匹配版图几何信息，并存储；

其中，所述匹配结果包括：所述待匹配版图与所述标准版图的几何信息相似度的评价结果、单项几何指标匹配结果分布图表和分析报告。

2.根据权利要求1所述的基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述对标准版图几何信息进行统计包括：

统计标准版图图形的最大宽度和最小宽度和最大长度和最小长度和最大间距和最小间距和角对角的最大宽度和角对角的最小宽度和角对角的最大间距和角对角的最小间距和平均长度和平均宽度和角对角的平均宽度和角对角的平均间距和平均密度。

3.根据权利要求1所述的基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述特征图形的几何信息包括：

特征图形的线宽和间距和角对角的宽度和角对角的间距。

4.根据权利要求1所述的基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述对特征图形几何信息进行统计包括：

统计特征图形的最大宽度和最小宽度和最大长度和最小长度和最大间距和最小间距和角对角的最大宽度和角对角的最小宽度和角对角的最大间距和角对角的最小间距和平均长度和平均宽度和角对角的平均宽度和角对角的平均间距和平均密度。

5.根据权利要求1所述的基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法，其特征在于，所述特征图形为所述待匹配版图的全部版图图形或从版图图形中截取的特征区域，所述从版图图形中截取的特征区域为反映版图实际结构的具有代表性的图形。