[发明专利]一种透明热电模块的制备方法在审

专利信息
申请号: 201611164364.9 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN106784283A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 虞澜;宋世金;刘安安;胡建力;刘丹丹;樊堃;崔凯 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: H01L35/34 分类号: H01L35/34;C23C14/04;C23C14/08;C23C14/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 一种 透明 热电 模块 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种透明热电模块的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

(1)P型透明热电臂淀积:采用脉冲激光沉积技术,以P-CuCr1-xMgxO2陶瓷为靶材,在双面抛光Al2O3(0001)单晶衬底的其中一个表面淀积P-CuCr1-xMgxO2薄膜,淀积过程中用镍掩膜板Ⅰ遮挡衬底表面,以获得P型透明热电臂阵列;

(2)N型透明热电臂淀积:将步骤(1)中的双面抛光Al2O3(0001)单晶衬底翻转180°,镍掩膜板Ⅰ位置不变,采用脉冲激光沉积技术,以N-Zn1-yAlyO陶瓷为靶材,在双面抛光Al2O3(0001)单晶衬底的另一表面淀积N-Zn1-yAlyO薄膜,得到N型透明热电臂阵列;其中,每个条状P-CuCr1-xMgxO2薄膜和其背面对应的条状N-Zn1-yAlyO薄膜之间呈X形交叉分布;所述镍掩膜板Ⅰ的镂空掩膜图案为若干倾斜条状,条状之间相互平行、等距排列;

(3)金电极制备:采用离子溅射技术在双面抛光Al2O3(0001)单晶衬底的边缘两侧上淀积金电极,淀积过程中用镍掩膜板Ⅱ遮挡双面抛光Al2O3(0001)单晶衬底的边缘两侧;淀积完成后进行退火;最终使每个金电极覆盖在P-CuCr1-xMgxO2薄膜和N-Zn1-yAlyO薄膜的连接处,使P-CuCr1-xMgxO2薄膜和N-Zn1-yAlyO薄膜依次连接,形成两个独立的串联通路。

2.根据权利要求1所述透明热电模块的制备方法,其特征在于: P-CuCr1-xMgxO2陶瓷的制备方法为:将Cu2O、Cr2O3、MgO粉末按元素摩尔比Cu:Cr:Mg =1:(1-x):x混合、研磨1~3h,再放入不锈钢模具中压片成型,之后在空气气氛、1000~1200℃高温烧结10~20h得到P-CuCr1-xMgxO2陶瓷。

3.根据权利要求2所述透明热电模块的制备方法,其特征在于: P-CuCr1-xMgxO2中x的值为0.01≤x≤0.08。

4.根据权利要求1所述透明热电模块的制备方法,其特征在于:N-Zn1-yAlyO陶瓷的制备方法为:将ZnO与Al2O3粉末按元素摩尔比Zn:Al=(1-y):y混合、研磨1~3h,再放入不锈钢模具中压片成型,之后在空气气氛、1200~1600℃高温烧结10~20h得到N-Zn1-yAlyO陶瓷。

5.根据权利要求4所述透明热电模块的制备方法,其特征在于:N-Zn1-yAlyO中y的范围为0.005≤y≤0.02。

6.根据权利要求1所述透明热电模块的制备方法,其特征在于:步骤(1)中脉冲激光沉积技术的工艺条件为KrF准分子激光波长248nm,激光脉宽28ns,激光能量250~350mJ,激光频率3~5Hz,背底真空1×10-3~1×10-4Pa,生长温度700~760℃,生长流动氧压0.5~1.5Pa。

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